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J-GLOBAL ID：201203084006383130

光学素子の成形方法

Inventor： 米谷 公一
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 近島 一夫 ,  阪本 善朗
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010155742
Publication number (International publication number)：2012018309
Application date： Jul. 08, 2010
Publication date： Jan. 26, 2012
Summary：

【課題】微粒子分散紫外線硬化樹脂を用いて光学素子をレプリカ成形法で成形する工程で、紫外線硬化時に樹脂層の膜厚方向に屈折率分布が発生するのを抑制する。【解決手段】透明基板11上に樹脂層12を成形するための型に、微粒子分散紫外線硬化樹脂を充填し、加熱しながら波長380nm以上410nm以下の可視光を照射した後、紫外線を照射する。加熱をして可視光照射する工程により樹脂層をより早く均一に硬化することで屈折率分布を抑制する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レプリカ成形法による光学素子の成形方法において、 光学素子の樹脂層を成形するための型に微粒子分散紫外線硬化樹脂を充填する工程と、 型に充填した微粒子分散紫外線硬化樹脂を加熱し、加熱を継続しながら波長380nm以上410nm以下の可視光を照射する工程と、 可視光を照射した微粒子分散紫外線硬化樹脂に紫外線を照射する工程と、を有することを特徴とする光学素子の成形方法。

IPC (2)：

G02B 5/18 ,  G02B 3/00

FI (2)：

G02B5/18 ,  G02B3/00 Z

F-Term (7)：

2H249AA04 ,  2H249AA14 ,  2H249AA40 ,  2H249AA43 ,  2H249AA55 ,  2H249AA63 ,  2H249AA64