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J-GLOBAL ID:201203085727042756

デジタル製造システム用の支持材

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 名古屋国際特許業務法人
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2011532164
Publication number (International publication number):2012509777
Application date: Oct. 12, 2009
Publication date: Apr. 26, 2012
Summary:
第1のコポリマーとポリマー衝撃改質剤とを含む支持材の原料(36)において、第1のコポリマーがカルボキシル基を含む第1のモノマー単位およびフェニル基を含む第2のモノマー単位を含む支持材の原料。
Claim (excerpt):
デジタル製造システムと共に使用するための支持材の原料において、 -・ カルボキシル基を含む第1のモノマー単位と; ・ フェニル基を含む第2のモノマー単位と; を含む第1のコポリマーと、 - ポリマー衝撃改質剤と、 を含む支持材の原料。
IPC (5):
B29C 67/00 ,  C08L 33/02 ,  C08L 33/08 ,  C08L 25/08 ,  C08L 63/10
FI (5):
B29C67/00 ,  C08L33/02 ,  C08L33/08 ,  C08L25/08 ,  C08L63/10
F-Term (13):
4F213AA13 ,  4F213AA21 ,  4F213WA25 ,  4F213WB01 ,  4F213WL15 ,  4F213WL34 ,  4F213WL56 ,  4F213WL62 ,  4F213WL74 ,  4J002BG04W ,  4J002BG07W ,  4J002BG10W ,  4J002CD19X
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (1)

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