Pat
J-GLOBAL ID:201203086442287212
還元水の作製方法および還元水作製装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
小林 浩
, 潮 太朗
, 鈴木 康仁
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011190886
Publication number (International publication number):2012206105
Application date: Sep. 01, 2011
Publication date: Oct. 25, 2012
Summary:
【課題】活性酸素が原因となる様々な病気に効果のある還元水(水素豊富水)を、金属マグネシウム等を水に入れることにより、従来よりも効率良く生成する方法等を提供する。【解決手段】マグネシウム等の金属を、酸化還元反応の陽極に含まれる固相と共に水に添加することにより、マグネシウムイオンの飽和量を増加させ、また金属マグネシウム表面に水酸化マグネシウムが析出することによる劣化を改善する。この結果、上記課題を解決する。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
金属マグネシウムを用いて水中で水素を発生させる方法において、多孔性の固相を用いることを特徴とする還元水の作製方法。
IPC (6):
C02F 1/68
, C02F 1/46
, C02F 1/42
, A23L 1/30
, A61K 8/19
, A61Q 19/00
FI (13):
C02F1/68 520B
, C02F1/68 510A
, C02F1/68 510B
, C02F1/68 510C
, C02F1/68 530B
, C02F1/68 540C
, C02F1/68 540E
, C02F1/68 540Z
, C02F1/46 Z
, C02F1/42 B
, A23L1/30 Z
, A61K8/19
, A61Q19/00
F-Term (32):
4B018MD01
, 4B018ME06
, 4B018MF02
, 4C083AB051
, 4C083CC02
, 4C083DD17
, 4C083DD21
, 4C083DD27
, 4D025AA03
, 4D025AB19
, 4D025BA08
, 4D025BB11
, 4D025DA06
, 4D025DA10
, 4D061DA02
, 4D061DA03
, 4D061DA04
, 4D061DB09
, 4D061EA02
, 4D061EB02
, 4D061EB04
, 4D061EB14
, 4D061EB16
, 4D061EB27
, 4D061EB28
, 4D061EB29
, 4D061EB30
, 4D061EB31
, 4D061EB33
, 4D061ED20
, 4D061FA08
, 4D061FA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (13)
-
特許第3349710号
-
特許第3606466号
-
特許第4252434号
-
フルボ酸を用いるI型アレルギー抑制剤及びI型アレルギーの発症抑制方法。
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-053656
Applicant:国立大学法人筑波大学
-
アレルゲンの除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-037362
Applicant:国立大学法人三重大学
-
水素発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-206236
Applicant:田中好郎, 高谷泰之
-
活性水素溶存水の生成方法、生成器および生成用の石こう供給部材、並びに活性水素の生成性物質とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-077851
Applicant:志賀誠記
-
水改質装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-332045
Applicant:株式会社デンソー, 株式会社豊田中央研究所
-
電解還元水製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-388877
Applicant:旭化成ケミカルズ株式会社
-
浄水装置用電極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-124638
Applicant:株式会社ホリノウチ
-
還元水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-006136
Applicant:株式会社フラックス
-
アルカリイオン水噴霧装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-070623
Applicant:奥村則弘
-
特許第4756102号
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Cited by examiner (8)
-
水素発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-206236
Applicant:田中好郎, 高谷泰之
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活性水素溶存水の生成方法、生成器および生成用の石こう供給部材、並びに活性水素の生成性物質とその製造方法
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Application number:特願2005-077851
Applicant:志賀誠記
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水改質装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-332045
Applicant:株式会社デンソー, 株式会社豊田中央研究所
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電解還元水製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-388877
Applicant:旭化成ケミカルズ株式会社
-
浄水装置用電極
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-124638
Applicant:株式会社ホリノウチ
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還元水生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-006136
Applicant:株式会社フラックス
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アルカリイオン水噴霧装置
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Application number:特願2003-070623
Applicant:奥村則弘
-
特許第4756102号
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