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J-GLOBAL ID：201203087856179388

基材上に流体膜を塗布する塗布装置

Inventor： フランツ ダースト ,  ビュレント ユンザル
Applicant, Patent owner： エフエムペー テヒノロギー ゲーエムベーハー フルイート メジャーメンツ アンド プロジェクツ
Agent (1)： 西山 善章
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2011523401
Publication number (International publication number)：2012500111
Application date： Aug. 14, 2009
Publication date： Jan. 05, 2012
Summary：

本発明は、基材上に流体膜を塗布する塗布装置であって、実質的に塗布装置の第1の幅全体にわたって連続して延在する流体膜を生成するスロットノズル(1)の上流側に配置され、スロットノズル(1)の第2の幅(B2)にわたって流体を分散させる分散空間(7)があり、流体を供給する少なくとも1つのチャネル(6)が分散空間(7)の上流側に提供され、前記チャネルが、第3の幅(B3)を有し、第3の幅(B3)が第2の幅(B2)より小さい塗布装置に関する。スロットの幅にわたる材料の不均一なスループットを回避するために、本発明によれば、フローの方向(S)に増大する断面積を有する複数の供給チャネル(9)を分散空間(7)内に配置することが提案される。

Claim (excerpt)：

基材上に流体膜を塗布する塗布装置であって、前記流体膜を生成するスロットノズル(1)の第2の幅(B2)にわたって流体を分散させる分散空間(7)が、実質的に前記塗布装置の第1の幅(B1)全体にわたって連続して延在する前記スロットノズル(1)の上流側に提供され、流体を供給する少なくとも1つのチャネル(6)が前記分散空間(7)の上流側に提供され、前記チャネル(6)が第3の幅(B3)を有し、前記第3の幅(B3)が前記第2の幅(B2)よりも小さく、 フローの方向(S)に増大する断面積を有する複数の分散チャネル(9)が、前記分散空間(7)内に提供されることを特徴とする塗布装置。

IPC (1)：

B05C 5/00

FI (1)：

B05C5/00 102

F-Term (9)：

4F041AB01 ,  4F041BA12 ,  4F041BA17 ,  4F041BA34 ,  4F041CA02 ,  4F041CA06 ,  4F041CA07 ,  4F041CA16 ,  4F041CA25

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• コーティング溶液塗布装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-216254   Applicant：ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
• 特許第3512193号
  
• 塗布幅変更装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-351275   Applicant：富士写真フイルム株式会社