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J-GLOBAL ID：201203088609459480

質量分析装置、質量分析用イオン化剤及び質量分析方法

Inventor： 吉村 公博 ,  小松 学 ,  橋本 浩行 ,  村山 陽平
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012195243
Publication number (International publication number)：2012233925
Application date： Sep. 05, 2012
Publication date： Nov. 29, 2012
Summary：

【課題】 測定対象物質を脱離・イオン化する質量分析において、脱離/イオン化した測定対象物質の検出を高感度に行うことができる質量分析方法を提供する。【解決手段】 基板上に、少なくとも、下記式(1)で表される官能基を1分子中に2個以上有し、かつ沸点が150°C以上であるイオン化剤と、測定対象物質とを載置する工程、前記イオン化剤と測定対象物質に、イオン、中性粒子、電子、並びに、レーザー光の中から選ばれる一つの一次ビームを照射する工程を有する質量分析方法。【化1】【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

イオン化室と、イオン、中性粒子、電子、並びにレーザー光の中から選ばれる一つの一次ビームを測定対象物に照射する手段と、前記一次ビームで脱離・イオン化された前記測定対象物質の質量情報を得る手段と、を有する質量分析装置であって、 基板上に、少なくとも、下記式(1)で表される官能基を1分子中に2個以上有し、かつ沸点が150°C以上である質量分析用イオン化剤と、前記測定対象物質とを載置する手段を有しており、前記質量分析用イオン化剤と測定対象物質に、前記一次ビームを照射することを特徴とする質量分析装置。

IPC (1)：

G01N 27/62

FI (1)：

G01N27/62 V

F-Term (7)：

2G041CA01 ,  2G041DA04 ,  2G041FA12 ,  2G041GA06 ,  2G041GA16 ,  2G041JA07 ,  2G041JA08

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特許第5084597号
  
• 質量分析基板及び質量分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-114483   Applicant：キヤノン株式会社
• 情報取得方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-340565   Applicant：キヤノン株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 「マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法による高分子及び生体試料中の微量有機成分の直接分析」