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J-GLOBAL ID：201203093811197202

荷電粒子線応用装置

Inventor： 大滝 大樹 ,  圓山 百代 ,  太田 洋也
Applicant, Patent owner： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
Agent (1)： ポレール特許業務法人
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2010000003
Publication number (International publication number)：WO2010082451
Application date： Jan. 04, 2010
Publication date： Jul. 22, 2010
Summary：

マルチビーム方式の荷電粒子線応用装置において、多様な特性を持つ試料に対して、二次荷電粒子の検出精度と試料を処理する速度を両立し得る荷電粒子線応用装置を実装可能な構成で提供する。 アパーチャーアレイ(111)に複数の開口パターンを設け、荷電粒子源である電子銃(102)とアパーチャーアレイ(111)の間に存在する荷電粒子源像の位置に一次ビームが通過する開口パターンを選択するための偏向器(109)を設ける。帯電制御用ビーム照射時と信号取得用ビーム照射時においてアパーチャーアレイ(111)の開口パターンを選択し、それぞれのビーム走査と同期を取ってレンズアレイ(112)および表面電界制御電極(118)などの条件を切り替える。これにより、帯電制御および信号取得を異なるタイミングで、且つ各々適した条件で行うことが可能となる。

Claim (excerpt)：

荷電粒子を発生する荷電粒子源と、 前記荷電粒子源で発生した前記荷電粒子を複数の荷電粒子線に分離する照射系分離部と、前記複数の荷電粒子線を試料上に照射させる1つ以上のレンズと前記複数の荷電粒子線を前記試料上で走査する走査偏向用偏向器を含む一次光学系と、 前記複数の荷電粒子線の前記試料上への照射により前記試料上の複数箇所から発生した二次荷電粒子線を個別に検出する信号検出部と、 前記二次荷電粒子線を前記信号検出部に入射させる二次光学系と、 前記試料を載置して移動可能なステージと、 前記複数の荷電粒子線を用い、帯電制御用荷電粒子線を前記試料に照射して前記試料を負帯電する帯電制御用ビーム照射と、前記試料に信号取得用荷電粒子線を照射して前記試料から信号を取得する信号取得用ビーム照射のタイミングを切り替えるよう制御する制御部とを備える、 ことを特徴とする荷電粒子線応用装置。

IPC (4)：

H01J 37/28 ,  H01J 37/24 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/147

FI (4)：

H01J37/28 B ,  H01J37/24 ,  H01J37/20 H ,  H01J37/147 B

F-Term (8)：

5C001CC04 ,  5C033FF03 ,  5C033FF09 ,  5C033FF10 ,  5C033UU01 ,  5C033UU02 ,  5C033UU03 ,  5C033UU10