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J-GLOBAL ID:201204016008883295  Research Project code:7505 Update date:Oct. 07, 2013

高密度AHA 処理によるプラスチック基板上の結晶性Si 層の形成技術の開発

Study period:2009 - 継続中
Organization (1):
Investigating Researcher (1):
Research overview:
真空チャンバ内で水素ガスを加熱触媒体線上で解離させ、生成した原子状水素を基板表面に吹き付ける原子状水素アニール(AHA)法により、プラスチック基板上に低温で作製したSiO2膜表面を還元し、プラスチック基板上に結晶性Si層を形成する技術を開発する。本技術により軽量・低消費電力の情報端末であるフレキシブルディスプレイ(シートコンピュータ)の実現を目指し、誰もが安全かつ豊かな生活が送れる社会を構築する。
Research program: シーズ発掘試験
Ministry with control over the research :
文部科学省
Organization with control over the research:
独立行政法人科学技術振興機構
Parent Research Project (1):

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