Proj
J-GLOBAL ID:201204045480422536  Research Project code:6690 Update date:Oct. 07, 2013

プラズマを用いた半導体ナノワイヤ大量合成技術

Study period:2009 - 継続中
Organization (1):
Investigating Researcher (1):
Research overview:
数十nm以下の直径を有する半導体ナノワイヤは、次世代の電子・光デバイスや環境・エネルギー関連デバイスなど様々な分野への応用が期待される。半導体ナノワイヤのボトムアップ形成について、従来の熱プロセス "VLS (vapor-liquid-solid) 法" にかわり、プラズマプロセスを適用した大口径化可能 (メートルサイズの基板にまで適用可能) な新しい高精度ナノワイヤ大量合成技術 "PLS (plasma-liquid-solid) 法" を開発し、その有用性・実用性を実証する。
Research program: シーズ発掘試験
Ministry with control over the research :
文部科学省
Organization with control over the research:
独立行政法人科学技術振興機構
Parent Research Project (1):

Return to Previous Page