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J-GLOBAL ID：201301082458025212   Update date: Oct. 09, 2024

Momose Takeshi

モモセ タケシ | Momose Takeshi
Affiliation and department：
Kumamoto University Research and Education Institute for Semiconductors and Informatics

About Kumamoto University Research and Education Institute for Semiconductors and Informatics


Job title： Professor
Homepage URL  (1)： http://www.fpelab.cs.kumamoto-u.ac.jp
Research field  (4)： Chemical reaction and process system engineering ,  Electronic devices and equipment ,  Thin-film surfaces and interfaces ,  Material fabrication and microstructure control
Research keywords  (9)： Thin film ,  Process engineering ,  Reaction engineering ,  Material science and engineering ,  Semiconductor devices ,  Supercritical fluid ,  Supercritical fluid deposition ,  Atomic layer deposition ,  化学気相堆積(CVD)
Papers (64)：
  • Noboru Sato, Jun Yamaguchi, Masahiro Koto, Hayato Kubo, Takanori Sugiyama, Takahito Tanibuchi, Momoko Deura, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. Theoretical study on gas-phase reactions during chemical vapor deposition of TixAl1-xN from TiCl4, AlCl3, and NH3. International Journal of Chemical Kinetics. 2024
  • Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. Atomic Layer Deposition of Cobalt Film from Dicobalt-hexacarbonyl-tert-butylacetylene and Hydrogen. ECS Journal of Solid State Science and Technology. 2023. 12. 11. 114003-114003
  • Momoko Deura, Takuya Nakahara, Wan Chi Lee, Takeshi Momose, Yoshiaki Nakano, Masakazu Sugiyama, Yukihiro Shimogaki. Effect of layer structure of AlN interlayer on the strain in GaN layers during metal-organic vapor phase epitaxy on Si substrates. Journal of applied physics. 2023. 133. 16
  • Kohei Shima, Yuhei Otaka, Noboru Sato, Yuichi Funato, Yasuyuki Fukushima, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. Kinetic Study on Heterogeneous Nucleation and Incubation Period during Chemical Vapor Deposition. The Journal of Chemical Physics. 2023. 158. 12. 124704-1-12
  • Yuyuan Huang, Momoko Deura, Yusuke Shimoyama, Yukihiro Shimogaki, Takeshi Momose. Supercritical fluid deposition for conformal Cu film formation on sub-millimeter-scale structures used to fabricate terahertz waveguides. Applied physics express. 2022. 15. 7
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MISC (240)：
  • Haonan Liu, Yuxuan Wu, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. “Development of Molybdenum Atomic Layer Deposition Process for Next Generation ULSI Interconnect”. ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023
  • Shunsuke Kimura, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. “In Situ observation of initial stage of Cobalt ALD using reflected light measurement”. ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023
  • Jun Yamaguchi, Noboru, Sato, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. "Examination of Co-ALD process using CCTBA precursor". ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023
  • Yuxuan Wu, Jun Yamaguchi, Noboru Sato, Haonan Liu, Atsuhiro Tsukune, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. “Study of Cu precursors Adsorption Behavior on Cu (111) Surface by Density Functional Theory”. ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023
  • Yubin Deng, Takeshi Momose, Yukihiro Shimogaki. “Investigation of oxidation impact on Cu diffusivity in ultra-thin PVD-Co(W) films”. ADMETA Plus 2023, Oct. 11-13, 2023, Tokyo, Japan. 2023
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Books (5)：
  • 高圧力の科学・技術事典
    朝倉書店 2022 ISBN:9784254102970
  • 薄膜作製応用ハンドブック
    エヌ・ティー・エス 2020 ISBN:9784860436315
  • 最新実用真空技術総覧 = New practical vacuum technology
    エヌ・ティー・エス 2019 ISBN:9784860435592
  • 超臨界流体を用いる合成と加工
    シーエムシー出版 2017 ISBN:9784781312682
  • 超臨界流体技術の開発と応用
    シーエムシー出版 2014 ISBN:9784781308906
Lectures and oral presentations  (27)：
  • Supercritical fluid deposition for semiconductors
    (The Society of Chemical Engineering, Japan, 89th annual Meeting (international session) 2024)
  • 超臨界流体薄膜堆積法の基礎と半導体応用
    (公益社団法人 新化学技術推進協会 2024)
  • 半導体集積地熊本での薄膜プロセス研究
    (化学工学会東北支部夏季セミナー 2023)
  • タイムラグ法を用いた極薄PVD-Co(W)薄膜の定量的バリア性評価
    (電子情報通信学会 シリコン材料・デバイス研究会 2022)
  • 超臨界流体薄膜堆積法(SCFD):速度論からデバイス応用まで
    (化学工学会第52回秋季大会 2021)
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Professional career (1)：
  • Ph.D (Eng.) (The University of Tokyo)
Work history (7)：
  • 2024/04 - 現在 Kumamoto University Research and Education Institute for Semiconductors and Informatics Professor
  • 2023/04 - 2024/03 Kumamoto University Research and Education Institute for Semiconductors and Informatics Associate Professor
  • 2016/04 - 2023/03 The University of Tokyo The Graduate School of Engineering Lecturer
  • 2011/07 - 2016/03 The University of Tokyo The Graduate School of Engineering Assistant Professor
  • 2011/04 - 2011/06 The University of Tokyo The Graduate School of Engineering Project Assistant Professor
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Committee career (20)：
  • 2024/07 - 現在 第17回JAFOE 日米先端工学シンポジウム (2025). Sesseion Chair “Heterogeneous Integration in Semiconductors”
  • 2023 - 現在 化学工学会 エレクトロニクス部会 幹事
  • 2023 - 現在 化学工学会 超臨界流体部会 部会連携委員
  • 2022 - 現在 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 幹事
  • 2022 - 現在 応用物理学会 シリコンテクノロジー分科会 多層配線システム研究委員会 委員
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Awards (4)：
  • 2024/03 - 化学工学会 2023年度化学工学会部会活動貢献賞(部会CT賞) 超臨界流体部会における部会活動の企画、運営と活性化への顕著な貢献
  • 2012/03 - 化学工学会 平成23年度化学工学会研究奨励賞(内藤雅喜記念賞) 超臨界流体を用いた金属薄膜堆積プロセスの構築
  • 2011/09 - 化学工学会CVD反応分科会 平成23年度若手奨励賞 超臨界Cu薄膜堆積プロセスの体系的理解に基づくウェハスケール反応器設計
  • 2011/09 - Advanced Metallization Conference ADMETA Poster Award 2011 Mass Production Reactor design for Cu Interconnects on 12-inch Wafers Using Supercritical Fluid Deposition
Association Membership(s) (3)：
エレクトロニクス実装学会 ,  応用物理学会 ,  化学工学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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