Art

J-GLOBAL ID：201302205188700557   Reference number：13A1504530

Surface Modification in Silica-Based Films by Undurator Radiation

シリカベース膜のアンジュレータ放射による表面改質

Author (4)： MORIWAKI K. (Kobe Univ.) ,  TAKEZAWA S. (Kobe Univ.) ,  KANDA K. (Univ. Hyogo) ,  MATSUI S. (Univ. Hyogo)
Material： LASTI Annual Report  (LASTI Annu Rep)
Volume： 14  Page： 39-40  Publication year： Oct. 2013 
JST Material Number： L4711A  ISSN： 2189-6909  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *synchrotron radiation ,  *surface modification ,  X-ray photoelectron spectrum ,  RIE ,  depth distribution ,  *optical waveguide ,  refractive index ,  *silicon dioxide ,  undulator radiation
Semi thesaurus term： *silica ,  reactive ion etching

JST classification (1)： Irradiational changes of other materials  (BK16124V)

Terms in the title (3)： シリカ ,  アンジュレータ放射 ,  表面改質