Art

J-GLOBAL ID：201302217555874638   Reference number：13A0021189

無反射構造のためのSiO₂/Siナノピラー配列の作製

Author (4)： ITO KAZUO (群馬大 大学院工学研究科) ,  TAKAGI KAZUYA (群馬大 大学院工学研究科) ,  SUGITO YUHEI (群馬大 大学院工学研究科) ,  NOGUCHI KATSUYA (群馬大 大学院工学研究科)
Material： 群馬大学アドバンスト・テクノロジー高度研究センター年報  (Annual Report of GU-ATEC)
Issue： 16  Page： 12-13  Publication year： Nov. 2012 
JST Material Number： L6814A  Document type： Year Book
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *antireflection film ,  silicon dioxide ,  *silicon ,  *nanostructure ,  *column ,  semiconductor ,  Schottky barrier ,  aspect ratio ,  *nanopillar ,  *solid (cubic)
Semi thesaurus term： *silicon ,  nanomesh

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (4)： SiO2 ,  Si ,  ナノピラー ,  作製