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J-GLOBAL ID：201302229467580517   Reference number：13A0854354

Optical properties of “black silicon” formed by catalytic etching of Au/Si(100) wafers

Au/Si(100)ウエハの触媒エッチングにより形成された”黒色シリコン”の光学的性質

Author (2)： MATSUI Yusuke (Graduate School of Sci. and Engineering, Gunma Univ., Kiryu, Gunma 376-8515, JPN) ,  ADACHI Sadao (Graduate School of Sci. and Engineering, Gunma Univ., Kiryu, Gunma 376-8515, JPN)
Material： Journal of Applied Physics  (Journal of General Physics and its Application to Other Sciences and to Industry)
Volume： 113  Issue： 17  Page： 173502-173502-9  Publication year： May. 07, 2013 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *wafer ,  transition metal catalyst ,  *etching ,  *nanowire ,  silicon ,  surface structure ,  wetting(liquid) ,  infrared absorption spectrum ,  photoluminescence ,  emission spectrum ,  fluorescence decay ,  Raman spectrum
Semi thesaurus term： *Si wafer ,  *chemical etching ,  Au catalyst ,  wettability

JST classification (1)： Crystal growth of semiconductors  (BK13040X)

Terms in the title (7)： Au ,  Si ,  ウエハ ,  触媒 ,  エッチング ,  黒色シリコン ,  光学的性質