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J-GLOBAL ID：201302243477574402   Reference number：13A0971500

パナソニックでのクロロシラン材料を用いた化学吸着単分子膜の展開

Author (1)： MINO NORIO (パナソニック 先端技研)
Material： ケイ素化学協会誌
Issue： 29  Page： 22-27  Publication year： Oct. 01, 2012 
JST Material Number： L3693A  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon chloride ,  *chemisorption ,  *monomolecular layer ,  transmission electron microscope ,  electron microscopy ,  Langmuir-Blodgett film ,  pattern formation ,  friction coefficient ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  surface energy ,  *self-organizing ,  water content ,  infrared absorption spectrum ,  *thin film growth ,  kinetic coefficients of friction ,  monochlorosilane ,  self-assembled monolayer
Semi thesaurus term： chlorosilane ,  self-assembled monolayer ,  water content

JST classification (1)： Thin films of organic compounds  (BK14070L)

Reference (16)：

• Mino, N.; Tamura, H.; Ogawa, K. Langmuir, 1991, 7, 2336.
• Mino, N.; Tamura, H.; Ogawa, K. Langmuir, 1992, 8, 594.
• Sagiv, J. J. Am. Chem. Soc. 1980, 102, 92.
• Mino, N.; Ogawa, K.; Minoda, T.; Takatsuka, M.; Sha, S.; Moriizumi, T. Thin Solid Films 1993, 230, 209.
• Zisman, W. A. Adv. Chem., 1964, 43, 1.

Terms in the title (4)： クロロシラン ,  化学吸着 ,  単分子膜 ,  展開