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J-GLOBAL ID：201302266115377889   Reference number：13A1216259

スパッタリング法による人工光合成用酸化チタン電極の合成

Author (1)： NAKAMURA YOSHITAKA (八戸工高専)
Material： 八戸工業高等専門学校紀要
Issue： 47  Page： 21-25  Publication year： Dec. 21, 2012 
JST Material Number： S0436A  ISSN： 0385-4124  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *photosynthesis ,  photocatalytic reaction ,  *titanium oxide ,  *photocatalyst ,  *semiconductor thin film ,  *RF sputtering ,  magnetron sputtering ,  *thin film growth ,  single crystal ,  substrate(plate) ,  magnesium oxide ,  aluminum oxide ,  strontium titanate ,  anatase-type crystal ,  rutile type crystal ,  oxide mineral ,  crystal structure ,  pressure effect ,  partial pressure ,  *electrode
Semi thesaurus term： artificial photosynthesis ,  brookite ,  oxygen partial pressure

JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Photochemical reactions  (CB08020F)

Terms in the title (4)： スパッタリング法 ,  人工光合成 ,  酸化 ,  チタン電極