Art

J-GLOBAL ID：201302282481803276   Reference number：13A0229903

Quick X-ray refiectivity measurements using a monochromatic X-ray source

単色X線源を使った迅速なX線反射率測定

Author (4)： VOEGELI Wolfgang (KEF) ,  MATSUSHITA Tadashi (KEF) ,  ARAKAWA Etsuo (Tokyo Gakugei Univ.) ,  YANO Yohko F. (Kinki Univ.)
Material： 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集  (日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム)
Volume： 26th  Page： 57  Publication year： Jan. 12, 2013 
JST Material Number： L1310A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： X-ray reflection ,  *reflectivity ,  synchrotron radiation ,  X-ray source ,  wafer ,  nickel ,  metallic thin film ,  measurement
Semi thesaurus term： Si wafer ,  *X-ray reflectivity ,  X-ray reflectometry

JST classification (1)： X-ray diffraction methods  (BK01020I)

Terms in the title (2)： 単色X線 ,  X線反射率測定