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J-GLOBAL ID：201302289565425921   Reference number：13A1200106

Precise Synthesis of Acrylic Block Copolymers and Application to On-demand Dismantlable Adhesion Systems in Response to Photoirradiation and Postbaking

アクリル性ブロックコポリマの精密合成および光照射とポストベーキングによるオン-デマンド分解性接着システムへの利用

Author (3)： YAMANISHI Keisuke (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  SATO Eriko (Osaka City Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUMOTO Akikazu (Osaka City Univ., Osaka, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 26  Issue： 2  Page： 239-244  Publication year： 2013 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *chemical synthesis ,  living radical polymerization ,  *organotellurium compound ,  *polyacrylate ,  photoacid generator ,  photoirradiation ,  baking ,  photolysis/photodisintegration ,  *adhesive strength ,  *photodegradable polymer ,  sulfonic acid ,  aliphatic fluorine compound ,  azo compound ,  aliphatic nitrile ,  Naphthalimides ,  *precise preparation ,  cooking (food)
Semi thesaurus term： adhesion strength

JST classification (4)： Copolymerization  (CG04030D) ,  Aliphatic selenium and tellurium compounds  (CF03170U) ,  Photochemical reactions  (CB08020F) ,  Decomposition,deterioration,degradation of polymers  (CG03010A)

Substance index (14)： Acrylic acid 2-hydroxyethyl ,  Trifluoromethanesulfonic acid anion ,  2-(Methyltelluro)isobutyric acid methyl ester ,  2-(Ethyltelluro)-2-methylpropanoic acid ethyl ester ,  2-(Butyltelluro)-2-methylpropanoic acid butyl ester ,  2-(Phenyltelluro)-2-methylpropanoic acid phenyl ester ,  Dimethyl pertelluride ,  Diethyl pertelluride ,  Dibutyl pertelluride ,  Diphenyl pertelluride ,  NAI-105 ,  AIBN ,  2,2'-Azobis(2,4-dimethyl-4-methoxyvaleronitrile) ,  Acrylic acid tert-butyl

Reference (19)：

• 1. Present address: Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University, 1-1 Gakuen-cho, Naka-ku, Sakai, Osaka 599-8531, Japan. E mail: [e-mail]
• 2. S. Yang, J. -S. Chen, H. 'Omer, T. Breiner, and C. K. Ober, Chem. Mater., 10 (1998) 1475.
• 3. J. Malik and S. J. Clarson, Int. J. Adhes. Adhes., 22 (2002) 283.
• 4. M. Shirai, S. Morishita, H. Okamura, and M. Tsunooka, Chem. Mater., 14 (2002) 334.
• 5. M. Shirai, A. Kawaue, H. Okamura, and M. Tsunooka, Chem. Mater., 15 (2002) 4075.

Terms in the title (8)： アクリル ,  ブロックコポリマ ,  精密合成 ,  光照射 ,  ベーキング ,  デマンド ,  分解性 ,  接着システム