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J-GLOBAL ID：201302292557960053   Reference number：13A0851933

ウェットプロセスによる発光性シリコンナノ粒子の作製

Author (8)： KITAZAWA SHUN (東京電機大) ,  KATO KEISUKE (東京電機大) ,  SATO KEISUKE (物質・材料研究機構) ,  FUJIOKA KOKI (東京慈恵会医大) ,  MANOME YOSHINOBU (東京慈恵会医大) ,  FUKATA NAOKI (物質・材料研究機構) ,  HIRAKURI KENJI (東京電機大) ,  YAMAMOTO KENJI (国立国際医療研究セ)
Material： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
Volume： 60th  Page： ROMBUNNO.28P-B8-2  Publication year： Mar. 11, 2013 
JST Material Number： Y0054B  ISSN： 2436-7613  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *nano particle ,  light emission ,  pretreatment ,  dispersive medium ,  etching ,  solution (liquid) ,  *photoluminescence ,  ratio ,  wet method ,  *silicon ,  *silicon nanoparticle ,  luminescence material
Semi thesaurus term： *wet process

JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Luminescence of semiconductors  (BM08092S)

Terms in the title (3)： ウェットプロセス ,  シリコンナノ粒子 ,  作製