Art

J-GLOBAL ID：201302298364147639   Reference number：13A0487262

Influence of developer temperature on the shape of structures fabricated by deep X-ray lithography

深部X線リソグラフィーにより製造された構造の形状に対する現像温度の影響

Author (2)： HORADE Mitsuhiro (JST ERATO Higashiyama Live-Holonics Project, Nagoya Univ., Furo-cho, Chikusa-ku, 464-8602, Nagoya, JPN) ,  SUGIYAMA Susumu (Ritsumeikan Univ., 1-1-1 Noji-Higashi, 525-8577, Kusatsu, Shiga, JPN)
Material： Microsystem Technologies  (Microsystem Technologies. Micro- and Nanosystems, Information Storage and Processing Systems)
Volume： 19  Issue： 3  Page： 357-362  Publication year： Mar. 2013 
JST Material Number： W2056A  ISSN： 0946-7076  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Germany, Federal Republic of (DEU)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *fine patterning ,  *micro structure ,  *X ray lithography ,  *development(photography) ,  temperature ,  polymer ,  side wall ,  tilt angle ,  absorption ,  production technology ,  *MEMS
Semi thesaurus term： ポリメチルメタクリル樹脂 ,  現像温度 ,  resin ,  深部X線リソグラフィー ,  production technology

JST classification (3)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  X-ray instruments and techniques  (BA02060D) ,  Photographing,developing,printing,enlargement  (ZA02030U)

Terms in the title (3)： 深部 ,  X線リソグラフィー ,  現像