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J-GLOBAL ID：201303003079513781

照射計画作成装置および照射計画作成プログラム

Inventor： 稲庭 拓 ,  古川 卓司 ,  兼松 伸幸 ,  野田 耕司
Applicant, Patent owner： 独立行政法人放射線医学総合研究所
Agent (2)： 磯野 道造 ,  多田 悦夫
Gazette classification：再公表公報
Application number (International application number)：JP2011060087
Publication number (International publication number)：WO2011162021
Application date： Apr. 25, 2011
Publication date： Dec. 29, 2011
Summary：

従来よりも短い時間で比較的ロバストな計画を得ることのできる照射計画作成方法を提供する。多門照射により強度を変調させつつペンシルビームをスキャンさせてスポット毎に重ね合わせ、放射線の照射を行う照射部位および放射線の照射を行うべきでない非照射部位を含んでなる照射対象に対して、予め入力された線量処方となるように線量分布を形成させるための照射計画を作成するにあたり、逐次近似繰り返し演算を行って評価指標値Eを導出し、当該評価指標値Eと予め設定された閾値Cとを比較して前記照射計画を作成する照射計画作成方法であって、前記逐次近似繰り返し演算は、前記第1条件および前記第2条件に加えてさらに、予め入力された照射方向から前記照射対象に与えられる前記線量分布の勾配を抑制するという第3条件を用いて前記評価指標値Eを導出する。

Claim (excerpt)：

多門照射により強度を変調させつつペンシルビームをスキャンさせてスポット毎に重ね合わせ、放射線の照射を行う照射部位および放射線の照射を行うべきでない非照射部位を含んでなる照射対象に対して、予め入力された線量処方となるように線量分布を形成させるための照射計画を作成するにあたり、 入力されたペンシルビームの重みについて、予め入力された前記照射部位に対しては、予め入力された目標線量に対して必要十分な線量が与えられるという第1条件と、 予め入力された前記非照射部位に対しては、予め入力された線量制限以下に抑えるという第2条件と、 を含む逐次近似繰り返し演算を行って評価指標値を導出し、当該評価指標値と予め設定された閾値とを比較して前記照射計画を作成する照射計画作成方法であって、 前記逐次近似繰り返し演算は、前記第1条件および前記第2条件に加えてさらに、 予め入力された照射方向から前記照射対象に与えられる前記線量分布の勾配を抑制するという第3条件を用いて前記評価指標値を導出する ことを特徴とする照射計画作成方法。

IPC (1)：

A61N 5/10

FI (1)：

A61N5/10 Q

F-Term (5)：

4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG24 ,  4C082AN04