空気清浄装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：特許業務法人森本国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012248892
Publication number (International publication number)：2013226372
Application date： Nov. 13, 2012
Publication date： Nov. 07, 2013
Summary：

【課題】殺菌剤溶液による殺菌を確実に行うことができる空気清浄装置を提供する。【解決手段】除菌対象空気が流れる通気路52を有するハウジング50と、前記通気路を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置53と、前記通気路から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽54と、循環槽の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系55と、巡廻系に殺菌剤溶液を供給する薬剤供給装置56と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系571を備え、巡廻系における薬剤供給装置が供給する殺菌剤溶液の原液の供給位置と希釈水系が供給する希釈水の供給位置とを異なる位置とすることで、殺菌剤溶液の原液が流入する巡廻系の流入部位に殺菌剤溶液の濃度の高い未使用液領域を形成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

除菌対象空気が上流側から下流側に流れる通気路を有するハウジングと、前記通気路を流れる除菌対象空気に殺菌剤溶液を噴霧する噴霧装置と、前記通気路から降下する殺菌剤溶液を受け止める循環槽と、循環槽の殺菌剤溶液を噴霧装置に供給する循環系と、殺菌剤溶液の原液を供給する薬剤供給装置と、殺菌剤溶液を希釈する希釈水を供給する希釈水系とを備え、噴霧装置とハウジングの通気路と循環槽と循環系を巡る殺菌剤溶液の巡廻系における薬剤供給装置が供給する殺菌剤溶液の原液の供給位置と希釈水系が供給する希釈水の供給位置とを異なる位置とすることで、殺菌剤溶液の原液が流入する巡廻系の流入部位に殺菌剤溶液の濃度の高い未使用液領域を形成し、巡廻系に取り込まれた菌体を噴霧の前に殺菌するようにしたことを特徴とする空気清浄装置。

IPC (4)：

A61L 9/14 , A61L 9/01 , B01D 47/06 , A61L 9/16

FI (4)：

A61L9/14 , A61L9/01 E , B01D47/06 A , A61L9/16 F

F-Term (20)：

4C080AA07 , 4C080AA09 , 4C080BB02 , 4C080BB05 , 4C080CC01 , 4C080HH03 , 4C080KK06 , 4C080LL02 , 4C080MM01 , 4C080MM08 , 4C080MM09 , 4C080QQ11 , 4C080QQ17 , 4D032AB07 , 4D032AC05 , 4D032AC09 , 4D032BA03 , 4D032BA05 , 4D032BA06 , 4D032BB05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

空気殺菌脱臭装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-007038 Applicant：国立大学法人東北大学, 新日本空調株式会社, 東北発電工業株式会社
空気清浄化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-344539 Applicant：株式会社サンシ-ル, 株式会社クリーン・エアー・システム
空気浄化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-107283 Applicant：電工社計測株式会社, 井垣茂夫

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