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J-GLOBAL ID：201303005997332512
プローブの作製方法およびプローブ、ならびに走査プローブ顕微鏡
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
山川 政樹
, 山川 茂樹
, 小池 勇三
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010193527
Publication number (International publication number)：2010276617
Patent number：5044003
Application date： Aug. 31, 2010
Publication date： Dec. 09, 2010
Claim (excerpt)：
【請求項1】 基板の主面に金属薄膜を形成する工程と、
前記金属薄膜を分割して複数の電極を形成する工程とを備え、
前記電極を形成する工程は、
集束した粒子線を前記基板の主面に照射することにより、前記基板の端から延在し前記金属薄膜を複数の領域に分割する複数の溝を形成する第1の工程と、
少なくとも前記基板の端から前記複数の溝の間に延在し前記基板の裏面から前記金属薄膜の表面まで貫通する間隙が形成される領域およびその周囲を前記基板の前記裏面から所定の深さまで除去して薄層化する第2の工程と、
前記薄層化した領域を除く前記基板の端の不要な部分を除去する第3の工程と、
集束した粒子線を前記基板の薄層化した領域の裏面から照射することにより前記間隙を少なくとも1つ形成する第4の工程と、
前記複数の溝と前記間隙とによって前記金属薄膜が分割されて形成された複数の電極の最先端部の不要な部分を除去して、前記複数の電極が同時に試料に接触できるように形状を整える第5の工程と
を含むことを特徴とするプローブの作製方法。
IPC (3)：
B23K 15/00 ( 200 6.01)
, G01Q 60/38 ( 201 0.01)
, G01Q 70/16 ( 201 0.01)
B23K 15/00 508
, B23K 15/00 505
, G01Q 60/38
, G01Q 70/16
