リングレーザジャイロの形成方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：黒田壽
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2007329470
Publication number (International publication number)：2009150793
Patent number：5321940
Application date： Dec. 21, 2007
Publication date： Jul. 09, 2009
Claim (excerpt)：

【請求項1】基準平面を有する基体と、前記基準平面に直交する方向へ、前記基準平面に対して平行に積層される1以上の基板と、光源と、前記基準平面に直交する方向へ、前記基準平面に対して平行に積層される平板状のプリズム基板とを有し、前記プリズム基板の外周には発振したレーザ光を反射する反射膜が形成され、前記基体及び/又は前記基板及び/又は前記プリズム基板には、前記光源からの光を反射する3以上の反射面が、前記基準平面に直交する平面内に該反射面の法線を有するように、かつ前記基準平面に平行又は所定角傾斜するように形成され、前記光源が前記平面内に光を放射するように配置され、前記光源から放射された光が3以上の前記反射面により前記平面内を順逆方向に周回してレーザ発振する周回光路を形成し、前記プリズム基板の第1の反射面と、該第1の反射面に隣接する第2の反射面とのなす角が90度からズレており、前記周回光路内で発振した順逆方向のレーザ光のそれぞれの一部が、前記プリズム基板の入射面から前記プリズム基板に入射し、順逆方向のレーザ光のうちいずれか一方のレーザ光が前記プリズム基板の前記第1の反射面及び前記第2の反射面とを反射し、他方向のレーザ光に対して微小角度交叉した状態で重ね合わされて干渉縞を発生する干渉縞発生装置を有し、基準平面に直交する方向へ、基準面と平行に干渉縞の変化を検出する検出手段を有する検出基板が積層され、検出された干渉縞の変化に基づき角速度を演算する演算手段を有するリングレーザジャイロを形成するリングレーザジャイロの形成方法において、前記干渉縞発生装置を構成する前記プリズム基板の第1及び第2の端面は、前記リングレーザジャイロを構成する基板を積層接合した後、全体を基準表面に対して垂直から微小角度だけ斜めにダイシングして形成されることを特徴とするリングレーザジャイロの形成方法。

IPC (2)：

G01C 19/66 ( 200 6.01) , H01S 5/00 ( 200 6.01)

FI (2)：

G01C 19/66 , H01S 5/00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特開平1-223788
半導体レーザジャイロ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-010583 Applicant：株式会社国際電気通信基礎技術研究所

Cited by examiner (2)

特開平1-223788
半導体レーザジャイロ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-010583 Applicant：株式会社国際電気通信基礎技術研究所

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