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J-GLOBAL ID：201303020836088998

レーザーコンプトン散乱装置

Inventor：
浦川 順治

About 浦川 順治

, 
清水 洋孝

About 清水 洋孝

, 
本田 洋介

About 本田 洋介


Applicant, Patent owner：
大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構

About 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構


Agent (1)： 中川 邦雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012021690
Publication number (International publication number)：2013161609
Application date： Feb. 03, 2012
Publication date： Aug. 19, 2013
Summary：
【課題】バースト増幅によって大強度レーザーパルスの生成及び蓄積ができる簡易で小型のレーザーコンプトン散乱装置を提供する。【解決手段】レーザーの自己発振増幅を行うため、少なくとも、励起レーザー光源と、RF強度変調器、ファイバ増幅器1、光共振器、調整ケーブル、及びファイバ増幅器2が順番に環状に連結して成る光周回路と、及び該光周回路の外に連結されて設けられたバースト増幅のためのレーザー耐久性の外部共振器からなり、外部共振器においてバースト増幅と蓄積を行い、該外部共振器の中でレーザーコンプトン散乱ができるレーザーコンプトン散乱装置の構成とした。【選択図】図11
Claim (excerpt)：
レーザーの自己発振増幅を行うため、少なくとも、励起レーザー光源と、RF強度変調器、ファイバ増幅器1、光共振器、調整ケーブル、及びファイバ増幅器2が順番に環状に連結して成る光周回路と、及び該光周回路の外に連結されて設けられたバースト増幅のためのレーザー耐久性の外部共振器から成る装置であり、 前記光周回路においてレーザーの自己発振増幅が起動されることによって前記光共振器に増幅レーザーが蓄積され、 この蓄積レーザーの一部が前記レーザー耐久性の外部共振器に伝送され、該外部共振器においてバースト増幅と蓄積が行われ、 該外部共振器の中でレーザーコンプトン散乱が行われることを特徴とする レーザーコンプトン散乱装置。
IPC (2)：
H05G 2/00 ,  H01S 3/00
FI (2)：
H05G1/00 J ,  H01S3/00 A
F-Term (19)：
4C092AA02 ,  4C092AB10 ,  4C092AC08 ,  5F172AE12 ,  5F172AF06 ,  5F172AM08 ,  5F172CC04 ,  5F172CC07 ,  5F172DD03 ,  5F172EE13 ,  5F172EE17 ,  5F172NN14 ,  5F172NP04 ,  5F172NQ23 ,  5F172NQ35 ,  5F172NQ47 ,  5F172NQ49 ,  5F172NQ50 ,  5F172ZZ14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
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