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J-GLOBAL ID:201303020836088998
レーザーコンプトン散乱装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中川 邦雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012021690
Publication number (International publication number):2013161609
Application date: Feb. 03, 2012
Publication date: Aug. 19, 2013
Summary:
【課題】バースト増幅によって大強度レーザーパルスの生成及び蓄積ができる簡易で小型のレーザーコンプトン散乱装置を提供する。【解決手段】レーザーの自己発振増幅を行うため、少なくとも、励起レーザー光源と、RF強度変調器、ファイバ増幅器1、光共振器、調整ケーブル、及びファイバ増幅器2が順番に環状に連結して成る光周回路と、及び該光周回路の外に連結されて設けられたバースト増幅のためのレーザー耐久性の外部共振器からなり、外部共振器においてバースト増幅と蓄積を行い、該外部共振器の中でレーザーコンプトン散乱ができるレーザーコンプトン散乱装置の構成とした。【選択図】図11
Claim (excerpt):
レーザーの自己発振増幅を行うため、少なくとも、励起レーザー光源と、RF強度変調器、ファイバ増幅器1、光共振器、調整ケーブル、及びファイバ増幅器2が順番に環状に連結して成る光周回路と、及び該光周回路の外に連結されて設けられたバースト増幅のためのレーザー耐久性の外部共振器から成る装置であり、
前記光周回路においてレーザーの自己発振増幅が起動されることによって前記光共振器に増幅レーザーが蓄積され、
この蓄積レーザーの一部が前記レーザー耐久性の外部共振器に伝送され、該外部共振器においてバースト増幅と蓄積が行われ、
該外部共振器の中でレーザーコンプトン散乱が行われることを特徴とする
レーザーコンプトン散乱装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (19):
4C092AA02
, 4C092AB10
, 4C092AC08
, 5F172AE12
, 5F172AF06
, 5F172AM08
, 5F172CC04
, 5F172CC07
, 5F172DD03
, 5F172EE13
, 5F172EE17
, 5F172NN14
, 5F172NP04
, 5F172NQ23
, 5F172NQ35
, 5F172NQ47
, 5F172NQ49
, 5F172NQ50
, 5F172ZZ14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
レーザーコンプトン散乱を利用した光源用レーザー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-182822
Applicant:大学共同利用機関法人高エネルギー加速器研究機構
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