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J-GLOBAL ID：201303021462671135

新規合成ハイドロタルサイト粒子及びその製法。

Inventor： 鈴木 隆文 ,  玉川 晋二郎
Applicant, Patent owner： 協和化学工業株式会社
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008168100
Publication number (International publication number)：2010006640
Patent number：5322207
Application date： Jun. 27, 2008
Publication date： Jan. 14, 2010
Claim (excerpt)：

【請求項1】顕微鏡観察下における形状が内部に空洞を有さない柱状であり、且つ下記式化1を満足する新規合成ハイドロタルサイト粒子。 (式中x、yおよびmは5.2≦x≦6.3,1≦y≦1.5,3≦m≦8を満足する値とする。)

IPC (3)：

C01F 7/00 ( 200 6.01) ,  A61K 33/06 ( 200 6.01) ,  A61P 1/04 ( 200 6.01)

FI (3)：

C01F 7/00 C ,  A61K 33/06 ,  A61P 1/04

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• ハイドロタルサイト粒子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-291953   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 塩基性炭酸マグネシウム及びその製造方法、並びに該塩基性炭酸マグネシウムを含有する組成物又は構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-179462   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 特開昭60-005021
  
• 流動性ハイドロタルサイト粉体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-297642   Applicant：堺化学工業株式会社

Cited by examiner (4)

• ハイドロタルサイト粒子及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-291953   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 塩基性炭酸マグネシウム及びその製造方法、並びに該塩基性炭酸マグネシウムを含有する組成物又は構造体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-179462   Applicant：日鉄鉱業株式会社
• 特開昭60-005021
  
• 流動性ハイドロタルサイト粉体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-297642   Applicant：堺化学工業株式会社