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J-GLOBAL ID：201303021706757550

透過電子顕微鏡

Inventor： 石塚 和夫 ,  三留 正則 ,  木本 浩司 ,  板東 義雄
Applicant, Patent owner： 独立行政法人物質・材料研究機構
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2005327684
Publication number (International publication number)：2007134229
Patent number：4788887
Application date： Nov. 11, 2005
Publication date： May. 31, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】計測対象となる物体からの光学的伝播距離の異なる計測面を順方向および逆方向に選択する計測面選択機構と、 電子波強度を計測する画像計測機構と、 順方向および逆方向に計測された電子波強度から強度輸送方程式に基づき、電子波の位相を求める位相演算機構 を備えることを特徴とする透過電子顕微鏡。

IPC (1)：

H01J 37/26 ( 200 6.01)

FI (1)：

H01J 37/26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特許第6590209号
  
• 位相回収式の位相コントラスト画像
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-528158   Applicant：エックス-レイ・テクノロジーズ・プロプライエタリー・リミテッド
• 透過形電子顕微鏡及び透過電子顕微鏡像観察方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-258476   Applicant：株式会社日立製作所
• 透過電子顕微鏡の高精度な軸調整方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-020121   Applicant：独立行政法人物質・材料研究機構

Cited by examiner (5)

• 特許第6590209号
  
• 特許第6590209号
  
• 位相回収式の位相コントラスト画像
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願平10-528158   Applicant：エックス-レイ・テクノロジーズ・プロプライエタリー・リミテッド
• 透過形電子顕微鏡及び透過電子顕微鏡像観察方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-258476   Applicant：株式会社日立製作所
• 透過電子顕微鏡の高精度な軸調整方法及びその装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-020121   Applicant：独立行政法人物質・材料研究機構