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J-GLOBAL ID:201303024138333188

メタン濃縮装置およびメタン濃縮方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 池田 治幸 ,  池田 光治郎
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007106492
Publication number (International publication number):2008260739
Patent number:5124158
Application date: Apr. 13, 2007
Publication date: Oct. 30, 2008
Claim (excerpt):
【請求項1】 メタンおよびそれよりも分子径の小さい気体を主成分とする原料ガスからメタン濃度を高めた濃縮ガスを回収するためのメタン濃縮装置であって、 二酸化炭素とメタンとの透過係数比 二酸化炭素/メタン が5以上且つ二酸化炭素の透過率が1×10-9(mol・m-2・s-1・Pa-1)以上であり、水素とメタンの透過係数比 水素/メタン が160以上且つ水素の透過率が1×10-7(mol・m-2・s-1・Pa-1)以上の特性を有する無機多孔質材料製の第1分離膜と、 二酸化炭素とメタンの透過係数比 二酸化炭素/メタン が5以上且つ二酸化炭素の透過率が1×10-9(mol・m-2・s-1・Pa-1)以上であり、水素とメタンの透過係数比 水素/メタン が160以上且つ水素の透過率が1×10-7(mol・m-2・s-1・Pa-1)以上の特性を有する無機多孔質材料製の第2分離膜と、 前記原料ガスを前記第1分離膜に導くための第1流路と、 その第1流路で導かれた前記原料ガスのうち前記第1分離膜を透過しなかった非透過ガスを前記第2分離膜に導くための第2流路と を、含むことを特徴とするメタン濃縮装置。
IPC (6):
C07C 7/144 ( 200 6.01) ,  B01D 71/02 ( 200 6.01) ,  B01D 53/22 ( 200 6.01) ,  C10L 3/06 ( 200 6.01) ,  C10L 3/10 ( 200 6.01) ,  C07C 9/04 ( 200 6.01)
FI (6):
C07C 7/144 ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C10L 3/00 A ,  C10L 3/00 B ,  C07C 9/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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