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J-GLOBAL ID：201303025123395167

周期構造およびその形成方法

Inventor： 金子 智 ,  伊藤 健 ,  秋山 賢輔 ,  安井 学 ,  加藤 千尋 ,  田中 聡美 ,  平林 康男 ,  楡 孝 ,  松野 明
Applicant, Patent owner： 神奈川県 ,  フェトン株式会社
Agent (2)： 片山 修平 ,  横山 照夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011202149
Publication number (International publication number)：2013063446
Application date： Sep. 15, 2011
Publication date： Apr. 11, 2013
Summary：

【課題】周期性の高い周期構造を形成すること。【解決手段】本発明は、被加工物40を連続発振レーザ光52および54に対し相対的に走査させた状態において、前記連続発振レーザ光52および54を、前記被加工物40のアブレーションが生じるエネルギー密度以下のエネルギー密度で、前記被加工物40の表面に照射することにより、前記被加工物40の表面に周期的な凹凸構造58を形成するステップを含む周期構造の形成方法である。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

被加工物を連続発振レーザ光に対し相対的に走査させた状態において、前記連続発振レーザ光を、前記被加工物のアブレーションが生じるエネルギー密度以下のエネルギー密度で、前記被加工物の表面に照射することにより、前記被加工物の表面に周期的な凹凸構造を形成するステップを含むことを特徴とする周期構造の形成方法。

IPC (2)：

B23K 26/00 ,  B23K 26/06

FI (4)：

B23K26/00 E ,  B23K26/06 A ,  B23K26/00 N ,  B23K26/00 M

F-Term (6)：

4E068AH01 ,  4E068CA02 ,  4E068CB08 ,  4E068CB10 ,  4E068CD02 ,  4E068CE01