Pat

J-GLOBAL ID：201303026722942431

表面改質されたシリカ殻からなる中空粒子およびその製造方法

Inventor： 藤 正督 ,  矢野 晃啓 ,  白井 孝 ,  高井 千加
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 名古屋工業大学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012113283
Publication number (International publication number)：2013237601
Application date： May. 17, 2012
Publication date： Nov. 28, 2013
Summary：

【課題】特定の溶液を選択的に吸着する機能を持つ表面が改質されたシリカ殻を有する中空粒子とその製造方法の提供する【解決手段】殻内にガス吸着等温線から検出される細孔径2〜20nmの細孔を有するシリカ殻からなる中空粒子であって、殻外表面、あるいは殻内表面の少なくとも一部位が表面改質剤によって疎水化あるいは親水化されたシリカ殻からなる中空粒子。シリカ殻からなる中空粒子をシランカップリング剤あるいはアルコールが溶解した有機溶媒に分散させ、加熱することにより、殻外表面あるいは殻内表面の少なくとも一部位が表面改質剤によって疎水化あるいは親水化する、シリカ殻からなる中空粒子の製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

殻内にガス吸着等温線から検出される細孔を有するシリカ殻からなる中空粒子であって、殻外表面、あるいは殻内表面の少なくとも一部位が表面改質剤によって疎水化あるいは親水化されたシリカ殻からなる中空粒子。

IPC (1)：

C01B 33/18

FI (1)：

C01B33/18 Z

F-Term (23)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072BB06 ,  4G072BB07 ,  4G072BB15 ,  4G072BB16 ,  4G072BB20 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ14 ,  4G072JJ23 ,  4G072LL11 ,  4G072LL15 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR05 ,  4G072RR20 ,  4G072TT01 ,  4G072TT08 ,  4G072UU11