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J-GLOBAL ID:201303029720730479

フィルム状炭素材料を製造する方法およびフィルム状炭素材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西浦 ▲嗣▼晴
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007228619
Publication number (International publication number):2008088050
Patent number:5252617
Application date: Sep. 04, 2007
Publication date: Apr. 17, 2008
Claim (excerpt):
【請求項1】 ナノメータレベルの平均繊維径を有するフィブリルが凝集して構成されたポリアセチレンフィルムにヨウ素を電子受容体としてドーピングし、 前記ヨウ素をドーピングした前記ポリアセチレンフィルムを前駆体として、不活性ガス雰囲気中で1000°C〜2500°Cの熱処理温度で炭素化することにより、前記前駆体の形状を維持したナノメータレベルの平均繊維径を有するグラファイト化した炭素フィブリルが凝集して構成されたフィルム状炭素材料を製造する方法。
IPC (3):
C01B 31/04 ( 200 6.01) ,  C01B 31/02 ( 200 6.01) ,  H01M 4/583 ( 201 0.01)
FI (3):
C01B 31/04 101 Z ,  C01B 31/02 101 Z ,  H01M 4/583
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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