Pat

J-GLOBAL ID：201303030133796996

同位体濃縮ホウ素含有化合物、およびその製造方法と使用方法

Inventor： カイム ロバート ,  スウィーニー ジョセフ ディー. ,  バイル オレグ ,  イェダヴェ シャラード エヌ. ,  ジョーンズ エドワード イー. ,  ゾウ ペン ,  タン イン ,  チェンバース バリー ルイス ,  レイ リチャード エス.
Applicant, Patent owner： アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド
Agent (1)： 名古屋国際特許業務法人
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013524931
Publication number (International publication number)：2013540676
Application date： Aug. 16, 2011
Publication date： Nov. 07, 2013
Summary：

2つ以上のホウ素原子と、少なくとも1つのフッ素原子とを含む同位体濃縮ホウ素含有化合物であって、少なくとも1つのホウ素原子は、ホウ素の所望の同位体を、その天然存在度濃度あるいは天然存在割合よりも大きな濃度あるいは割合で含んでいる化合物。該化合物は、化学式B2F4を有していてもよい。このような化合物の合成方法およびこのような化合物を用いるイオン注入方法、並びに該同位体濃縮ホウ素含有化合物が、後の分配に用いられる目的で有利に貯蔵される貯蔵・分配容器について記載されている。

Claim (excerpt)：

2つ以上のホウ素原子と、少なくとも1つのフッ素原子とを含むホウ素含有化合物であって、該化合物は、ホウ素同位体をその天然存在濃度あるいは天然存在割合よりも大きな濃度あるいは割合で含んでいることを特徴とする化合物。

IPC (3)：

C01B 35/16 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265

FI (5)：

C01B35/16 ,  H01J37/317 Z ,  H01L21/265 Z ,  H01L21/265 603A ,  H01L21/265 F

F-Term (1)：

5C034CC01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 連続式ホウ素同位体分離方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-099909   Applicant：ウエスチングハウス・エレクトリック・コーポレイション
• 特開昭64-038700
  
• 代替フッ化ホウ素前駆体を使用するホウ素イオン注入および注入のための大きな水素化ホウ素の形成
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2008-529239   Applicant：アドバンストテクノロジーマテリアルズ,インコーポレイテッド
• 同位体濃縮の水素化ホウ素の合成方法及び同位体濃縮のボラン類の合成方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2006-551484   Applicant：エスイーエム・エクイップインコーポレイテッド