濃度定量装置、光吸収係数算出方法、等価散乱係数算出方法、濃度定量方法、光吸収係数の算出を行うプログラム及び濃度の算出を行うプログラム

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：志賀正武 , 大浪一徳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011211687
Publication number (International publication number)：2013070822
Application date： Sep. 27, 2011
Publication date： Apr. 22, 2013
Summary：

【課題】目的の層以外の層によるノイズの影響を軽減する濃度定量装置を提供する。【解決手段】照射手段101と、第1受光手段102と、第2受光手段103と、第1光強度取得手段104と、第2光強度取得手段105と、第1等価散乱係数算出手段106と、光路長分布記憶手段108と、時間分解波形記憶手段109と、光路長取得手段110と、光強度モデル取得手段111と、第1光強度取得手段104または第2光強度取得手段105、若しくは第3光強度取得手段が取得した光強度と、光路長取得手段110が取得した複数の光散乱媒質の層の各々の層の光路長と、光強度モデル取得手段111が取得した光強度モデルと、に基づいて、任意の層の光吸収係数を算出する光吸収係数算出手段112と、光吸収係数算出手段112が算出した光吸収係数に基づいて、任意の層における目的成分の濃度を算出する濃度算出手段114と、を含む。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

複数の光散乱媒質の層から形成される観測対象のうち、任意の層における目的成分の濃度を定量する濃度定量装置であって、前記観測対象に短時間パルス光を照射する照射手段と、前記短時間パルス光が前記観測対象によって後方散乱した光を受光する第1受光手段と、前記短時間パルス光が前記観測対象によって後方散乱した光を受光するとともに、前記観測対象に前記短時間パルス光が照射される照射位置から前記観測対象によって後方散乱した光を受光する位置までの距離が前記第1受光手段と異なるように配置された第2受光手段と、前記照射手段が短時間パルス光を照射した時刻以降の所定の時刻において前記第1受光手段が受光した光の強度を取得する第1光強度取得手段と、前記照射手段が短時間パルス光を照射した時刻以降の所定の時刻において前記第2受光手段が受光した光の強度を取得する第2光強度取得手段と、前記第1光強度取得手段が取得した光強度と前記第2光強度取得手段が取得した光強度とに基づいて、前記第1受光手段若しくは前記第2受光手段が受光した光の伝搬光路の等価散乱係数を算出する第1等価散乱係数算出手段と、前記第1等価散乱係数算出手段が算出した任意の時刻における等価散乱係数に基づいて生成された、前記複数の光散乱媒質の層の各々の層における伝搬光路長分布のモデルを記憶する光路長分布記憶手段と、前記第1等価散乱係数算出手段が算出した任意の時刻における等価散乱係数に基づいて生成された、前記短時間パルス光の時間分解波形のモデルを記憶する時間分解波形記憶手段と、前記光路長分布記憶手段から、前記伝搬光路長分布のモデルの前記所定の時刻における、前記複数の光散乱媒質の層の各々の層の光路長を取得する光路長取得手段と、前記時間分解波形記憶手段から、前記短時間パルス光の時間分解波形のモデルの前記所定の時刻における光の強度を取得する光強度モデル取得手段と、前記第1光強度取得手段または前記第2光強度取得手段、若しくは前記第1光強度取得手段及び前記第2光強度取得手段とは異なる第3光強度取得手段が取得した光強度と、前記光路長取得手段が取得した前記複数の光散乱媒質の層の各々の層の光路長と、前記光強度モデル取得手段が取得した光強度モデルと、に基づいて、前記任意の層の光吸収係数を算出する光吸収係数算出手段と、前記光吸収係数算出手段が算出した光吸収係数に基づいて、前記任意の層における前記目的成分の濃度を算出する濃度算出手段と、を含むことを特徴とする濃度定量装置。

IPC (1)：

A61B 5/145

FI (1)：

A61B5/14 322

F-Term (12)：

2G059AA01 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE01 , 2G059EE02 , 2G059HH01 , 4C038KK10 , 4C038KL05 , 4C038KL07 , 4C038KM01 , 4C038KX01 , 4C038KY01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

キラル物質の検出装置、キラル物質の検出方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-031699 Applicant：セイコーエプソン株式会社
散乱吸収体内の散乱特性・吸収特性の測定方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-272508 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
濃度定量装置、濃度定量方法及びプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2009-087454 Applicant：セイコーエプソン株式会社, 国立大学法人北海道大学

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