計測装置および情報処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：阿部琢磨 , 黒岩創吾
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012150471
Publication number (International publication number)：2013036983
Application date： Jul. 04, 2012
Publication date： Feb. 21, 2013
Summary：

【課題】三次元位置計測において、投影パターンのパターン形状を適切に設定することを目的とする。【解決手段】計測対象に対してパターン光を投影する投影手段と、前記パターン光が投影された前記計測対象を撮影し、前記計測対象の撮影画像を取得する撮影手段と、前記撮影画像と、前記投影手段の位置および姿勢と、前記撮影手段の位置および姿勢とに基づいて、前記計測対象の位置および/または姿勢を計測する計測手段と、前記計測対象の位置および/または姿勢の変動範囲から、前記パターン光の識別分解能を設定する設定手段と、前記識別分解能に応じて、前記パターン光のパターン形状を変更する変更手段と、を有することを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

計測対象に対してパターン光を投影する投影手段と、前記パターン光が投影された前記計測対象を撮影し、前記計測対象の撮影画像を取得する撮影手段と、前記撮影画像と、前記投影手段の位置および姿勢と、前記撮影手段の位置および姿勢とに基づいて、前記計測対象の位置および/または姿勢を計測する計測手段と、前記計測対象の位置および/または姿勢の変動範囲から、前記パターン光の識別分解能を設定する設定手段と、前記識別分解能に応じて、前記パターン光のパターン形状を変更する変更手段と、を有することを特徴とする計測装置。

IPC (3)：

G01B 11/25 , G01B 11/00 , G06T 1/00

FI (3)：

G01B11/25 H , G01B11/00 H , G06T1/00 315

F-Term (31)：

2F065AA04 , 2F065AA37 , 2F065AA53 , 2F065EE08 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065FF07 , 2F065FF09 , 2F065GG04 , 2F065GG07 , 2F065HH04 , 2F065JJ03 , 2F065JJ26 , 2F065LL53 , 2F065LL61 , 2F065QQ31 , 2F065QQ38 , 5B057CA12 , 5B057CA18 , 5B057CB02 , 5B057CB06 , 5B057CB12 , 5B057CB16 , 5B057CD01 , 5B057CE12 , 5B057CG07 , 5B057DA07 , 5B057DB05 , 5B057DB08 , 5B057DC02 , 5B057DC34

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

3次元形状計測方法、3次元形状計測装置、及びプログラム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-109306 Applicant：日本電信電話株式会社
画像情報処理装置及びその制御方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-194412 Applicant：キヤノン株式会社
三次元の表面座標の決定方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-548904 Applicant：シーメンスアクチエンゲゼルシヤフト

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