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J-GLOBAL ID:201303035990720424
皮膚洗浄剤組成物
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (8):
特許業務法人アルガ特許事務所
, 有賀 三幸
, 高野 登志雄
, 中嶋 俊夫
, 村田 正樹
, 山本 博人
, 的場 ひろみ
, 大野 詩木
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2005028394
Publication number (International publication number):2006213652
Patent number:4704056
Application date: Feb. 04, 2005
Publication date: Aug. 17, 2006
Claim (excerpt):
【請求項1】 次の成分(A)、(B)、(D):
(A)アニオン界面活性剤 3〜50質量%、
(B)次の一般式(1)
(式中、R1はヒドロキシル基、カルボニル基又はアミノ基が置換していてもよい、炭素数4〜30の炭化水素基を示し;Yはメチレン基、メチン基又は酸素原子を示し;X1、X2、及びX3は各々独立して水素原子、ヒドロキシル基又はアセトキシ基を示し、X4は水素原子、アセチル基又はグリセリル基を示すか、隣接する酸素原子と一緒になってオキソ基を形成し(但し、Yがメチン基のとき、X1とX2のいずれか一方が水素原子であり、他方は存在しない。X4がオキソ基を形成するとき、X3は存在しない。);R2及びR3は各々独立して水素原子、ヒドロキシル基、ヒドロキシメチル基又はアセトキシメチル基を示し;a個のRは各々独立して水素原子又はアミジノ基であるか、ヒドロキシル基、ヒドロキシアルコキシ基、アルコキシ基及びアセトキシ基から選ばれる置換基を有していてもよい総炭素数1〜8の炭化水素基を示し;aは2又は3の数を示し;破線部は不飽和結合であってもよいことを示す)
で表わされるスフィンゴシン類又はその塩 0.01〜3質量%、
(D)グリセリンモノ2-エチルヘキシルエーテル 0.5〜30質量%
及び(C)水を含有し、ゲル又は液晶状態を呈する皮膚洗浄剤組成物。
IPC (7):
A61K 8/68 ( 200 6.01)
, A61K 8/55 ( 200 6.01)
, A61K 8/37 ( 200 6.01)
, A61K 8/02 ( 200 6.01)
, A61Q 19/10 ( 200 6.01)
, C11D 3/20 ( 200 6.01)
, C11D 3/30 ( 200 6.01)
FI (7):
A61K 8/68
, A61K 8/55
, A61K 8/37
, A61K 8/02
, A61Q 19/10
, C11D 3/20
, C11D 3/30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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局所用抗菌組成物
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-547751
Applicant:ギストブロカデスベスローテンフェンノートシャップ
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特開平2-048520
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毛髪用化粧料組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-346973
Applicant:一丸ファルコス株式会社
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マイクロエマルション
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-343351
Applicant:花王株式会社
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水性乳化剤ワックスゲル
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-398799
Applicant:ゴールドシュミットアーゲー
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