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J-GLOBAL ID：201303038552795070

治療用細胞フラグメント回収用基材およびそれを用いた治療用細胞フラグメントの製造方法、ならびに、継代用細胞フラグメント回収用基材およびそれを用いた継代用細胞フラグメントの製造方法

Inventor： 黒田 正敏 ,  奈良 真佐美 ,  岡野 光夫 ,  大和 雅之 ,  清水 達也 ,  渡邊 広也 ,  芦葉 恵介
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社 ,  学校法人東京女子医科大学 ,  株式会社セルシード
Agent (2)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011148437
Publication number (International publication number)：2013013368
Application date： Jul. 04, 2011
Publication date： Jan. 24, 2013
Summary：

【課題】本発明は、治療効果を再現性良く発揮できる治療用細胞フラグメントを得ることができる治療用細胞フラグメント回収用基材を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、刺激により細胞接着性が変化する刺激応答性領域と、細胞非接着性を有する細胞非接着領域と、を有し、上記刺激応答性領域の周囲が、上記細胞非接着領域により囲まれていることを特徴とする治療用細胞フラグメント回収用基材を提供することにより、上記目的を達成する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

刺激により細胞接着性が変化する刺激応答性領域と、 細胞非接着性を有する細胞非接着領域と、 を有し、 前記刺激応答性領域が、前記細胞非接着領域により囲まれていることを特徴とする治療用細胞フラグメント回収用基材。

IPC (2)：

C12M 3/00 ,  C12N 5/077

FI (2)：

C12M3/00 A ,  C12N5/00 202H

F-Term (12)：

4B029AA02 ,  4B029AA08 ,  4B029AA21 ,  4B029BB11 ,  4B029CC10 ,  4B029DG08 ,  4B029GB05 ,  4B029GB09 ,  4B065AA93X ,  4B065AC20 ,  4B065BC41 ,  4B065CA44