Pat
J-GLOBAL ID：201303039609289548
形状計測方法、形状計測装置、プログラム及び記録媒体
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
近島 一夫
, 阪本 善朗
, 大田 隆史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011177664
Publication number (International publication number)：2013040843
Application date： Aug. 15, 2011
Publication date： Feb. 28, 2013
Summary：
【課題】被検物の裏面からの不要反射光の影響を除去して、被検物の被検面の形状を高精度に計測すること。【解決手段】記憶制御部161は、理想被検面での反射による第1の基準反射光スポットの位置及び光量分布をHDD133に記憶させる。更に、記憶制御部161は、理想裏面での反射による第2の基準反射光スポットの位置及び光量分布をHDD133に記憶させる。取得部162は、被検面からの第1の反射光スポット及び裏面からの第2の反射光スポットを含む画像データをカメラ110から取得する。フィッティング部165は、HDD133に記憶された第1及び第2の基準反射光スポットの光量分布を合成させる。フィッティング部165は、その合成光の光量分布が、実際の合成光の光量分布と一致するように、第1及び第2の基準反射光スポットをフィッティングさせる。計算部166は、フィッティング結果に基づいて被検面の形状を計算する。【選択図】図4
Claim (excerpt)：
光を出射する光源と、前記光源から出射された光を被検物の被検面に導くと共に、前記被検物から反射した光を平行光として出力する光学系と、アレイ状に配置され、前記光学系から出力された平行光を結像面に結像させる複数のレンズを有するレンズアレイと、前記レンズアレイの結像面に配置された撮像部と、前記撮像部に接続された演算処理手段と、を備えた形状計測装置を用いた形状計測方法において、
前記演算処理手段が、前記被検面の理想形状である理想被検面での反射により前記結像面に結像される第1の基準反射光スポットの位置及び光量分布を記憶装置に記憶させると共に、前記被検面とは反対側の裏面の理想形状である理想裏面での反射により前記結像面に結像される第2の基準反射光スポットの位置及び光量分布を前記記憶装置に記憶させる記憶工程と、
前記演算処理手段が、前記被検面からの第1の反射光スポット及び前記裏面からの第2の反射光スポットを含む画像データを前記撮像部から取得する取得工程と、
前記演算処理手段が、前記記憶装置に記憶された前記第1の基準反射光スポットの光量分布と前記記憶装置に記憶された前記第2の基準反射光スポットの光量分布とを合成した合成光の光量分布が、前記第1の反射光スポットの光量分布と前記第2の反射光スポットの光量分布とを合成した合成光の光量分布と一致するように、前記第1の基準反射光スポット及び前記第2の基準反射光スポットをフィッティングさせるフィッティング工程と、
前記演算処理手段が、前記フィッティング工程でフィッティングさせた前記第1の基準反射光スポットの位置に基づいて前記被検面の形状を計算する計算工程と、を備えたことを特徴とする形状計測方法。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (24)：
2F065AA19
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065CC22
, 2F065DD12
, 2F065FF01
, 2F065FF04
, 2F065FF42
, 2F065GG02
, 2F065GG04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL04
, 2F065LL10
, 2F065LL12
, 2F065LL46
, 2F065QQ17
, 2F065QQ21
, 2F065QQ24
, 2F065QQ28
, 2F065QQ29
, 2F065QQ31
, 2F065QQ42
, 2F065SS13
