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J-GLOBAL ID：201303043071188123

一体形基板クリーニングシステム及び方法

Inventor： スワンソン ゴードン スコット ,  ヴァーギース イヴィン ,  バルーチ メフディ
Applicant, Patent owner： レイヴ エヌ.ピー. インコーポレイテッド
Agent (7)： 辻居 幸一 ,  熊倉 禎男 ,  弟子丸 健 ,  井野 砂里 ,  松下 満 ,  倉澤 伊知郎 ,  丹澤 一成
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013536870
Publication number (International publication number)：2013541228
Application date： Oct. 28, 2011
Publication date： Nov. 07, 2013
Summary：

有機及び無機残渣が付着している基板をクリーニングする方法が提供される。この方法は、空中酸素プラズマを用いて有機残渣を基板から除去するステップ及び極低温CO2を用いて無機残渣を基板から除去するステップを有する。基板は、温和な冷却剤を用いて前処理され、希釈湿式化学的クリーニング法を用いて後処理されるのが良い。【選択図】 図5

Claim (excerpt)：

有機及び無機残渣が付着している基板をクリーニングする方法であって、 空中酸素プラズマを用いて有機残渣を前記基板から除去するステップと、 極低温CO2を用いて無機残渣を前記基板から除去するステップとを有する、方法。

IPC (1)：

H01L 21/304

FI (2)：

H01L21/304 645C ,  H01L21/304 643Z

F-Term (18)：

5F157AA28 ,  5F157AA29 ,  5F157AA42 ,  5F157AA43 ,  5F157AA62 ,  5F157AB33 ,  5F157AB94 ,  5F157AB98 ,  5F157BB22 ,  5F157BC35 ,  5F157BD35 ,  5F157BG33 ,  5F157BG36 ,  5F157BG85 ,  5F157BG86 ,  5F157BG95 ,  5F157BH19 ,  5F157DB11