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J-GLOBAL ID：201303046624741232

粒子ビーム発生装置

Inventor： クラフト, ゲルハルト ,  齋藤 奈美 ,  シャルト, ディーター
Applicant, Patent owner： ジーエスアイ ヘルムホルツツェントゥルム フュア シュヴェリオーネンフォルシュング ゲーエムベーハー
Agent (5)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2013509580
Publication number (International publication number)：2013533953
Application date： May. 26, 2011
Publication date： Aug. 29, 2013
Summary：

本発明は、2つの粒子ビーム(12、13)を発生する加速器ユニット(3、8、10)と、被加工物(15)に向けてそれら2つの粒子ビーム(12、13)を出力する放射ユニット(20)とを備える粒子ビーム発生装置(1)に関する。2つの粒子ビーム(12、13)は、種類の異なるビームである。本発明は、粒子ビーム発生装置を制御する方法に更に関する。

Claim (excerpt)：

粒子ビーム(12、13)を発生する少なくとも1つの加速器ユニット(3、8、10)と、 前記少なくとも1つの粒子ビーム(12、13)を被加工物(15)に向けて出力する少なくとも1つの放射ユニット(20)と を備え、少なくとも質量及び電荷のいずれかが異なるハドロン粒子を含む少なくとも2つの粒子ビーム(12、13)が、少なくとも部分的であるか、少なくとも間欠的であるかの少なくともいずれかの態様において放射されることを特徴とする粒子ビーム発生装置(1)。

IPC (6)：

G21K 5/00 ,  G21K 5/04 ,  G21K 3/00 ,  G01T 1/29 ,  G21K 1/093 ,  A61N 5/10

FI (9)：

G21K5/00 M ,  G21K5/04 A ,  G21K5/04 D ,  G21K3/00 W ,  G21K3/00 Y ,  G01T1/29 A ,  G01T1/29 B ,  G21K1/093 D ,  A61N5/10 H

F-Term (15)：

2G088FF13 ,  2G088FF14 ,  2G088JJ05 ,  2G088JJ27 ,  2G088KK09 ,  2G088KK24 ,  2G088KK29 ,  2G088KK35 ,  2G088LL13 ,  4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AJ06 ,  4C082AP01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• イオン源、イオンビーム加工・観察装置、及び試料断面観察方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-113358   Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
• 医療システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-028881   Applicant：株式会社日立製作所