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J-GLOBAL ID：201303052024969175

粒子計測装置および方法

Inventor： 上 杉 知 弘 ,  川 橋 正 昭 ,  平 原 裕 行 ,  座 間 淑 夫
Applicant, Patent owner： 国立大学法人埼玉大学
Agent (1)： 杉信 興
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2006125149
Publication number (International publication number)：2007298327
Patent number：4774517
Application date： Apr. 28, 2006
Publication date： Nov. 15, 2007
Claim (excerpt)：

【請求項1】 レーザビームを出射するレーザ光源; 前記レーザビームを、第1ビーム,第2ビームおよび第3ビームに分岐するビームスプリッタ; 第1ビームを計測対象領域に照射する第1光学手段; 計測対象領域を照射する第1ビームに対して、第1ビームが当たった粒子の0次反射光と1次屈折光の光強度が同等となる散乱角θとなる受光角で計測対象領域を撮影する第1電子カメラ; 第2ビームを第1参照光として第1電子カメラに投射する第2光学手段; 第1電子カメラの光軸に対してステレオ角φをなし、かつ第3ビームが第2参照光として投射される第2電子カメラ; を備える粒子計測装置。

IPC (3)：

G01B 11/08 ( 200 6.01) ,  G01B 11/00 ( 200 6.01) ,  G01P 3/36 ( 200 6.01)

FI (3)：

G01B 11/08 G ,  G01B 11/00 H ,  G01P 3/36 C

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 小滴の状態計測装置、及び状態計測方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-161213   Applicant：川橋正昭, 日本ノッズル精機株式会社
• 噴霧測定装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-333926   Applicant：株式会社デンソー
• 粒子特徴量撮影計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-113402   Applicant：西野耕一, 株式会社ネクサス
• 特開昭61-112946
  

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 旋回噴霧における液滴径及び速度三成分の同時計測