薄膜形成装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：杉本勝徳 , 岡田充浩
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011271018
Publication number (International publication number)：2013122073
Application date： Dec. 12, 2011
Publication date： Jun. 20, 2013
Summary：

【課題】生体を侵襲せずに、エナメル質などの硬組織にカルシウムとリンを含む薄膜を形成する薄膜形成装置を提供する。薄膜に含まれるカルシウムやリンが唾液などによりイオン化し、再石灰化することによって、エナメル質などの硬組織が非侵襲で再生する。【解決手段】薄膜形成装置1は、レーザーLを照射するレーザー照射部11と、生体親和性セラミックスからなるターゲット12と、ターゲットがレーザーの照射線上に位置し、レーザーの照射によってターゲットから飛散した原子、分子、クラスター、ドロップレットPが硬組織(歯質T)に堆積されるように、レーザー照射部11及びターゲット12を保持するターゲット保持部13などを備えている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

レーザーを照射するレーザー照射部と、生体親和性セラミックスからなるターゲットと、ターゲットがレーザーの照射線上に位置し、レーザーの照射によってターゲットから飛散した原子、分子、クラスター、ドロップレットが硬組織に堆積されるように、レーザー照射部及びターゲットを保持するターゲット保持部と、を備え、硬組織に薄膜を形成する薄膜形成装置。

IPC (3)：

C23C 14/28 , A61B 18/20 , A61C 8/00

FI (3)：

C23C14/28 , A61B17/36 350 , A61C8/00 Z

F-Term (20)：

4C026AA01 , 4C026BB07 , 4C026BB08 , 4C026DD02 , 4C026DD06 , 4C026FF36 , 4C026FF53 , 4C026GG06 , 4C026GG10 , 4C059AA05 , 4C059AA10 , 4C059AA12 , 4K029AA01 , 4K029AA02 , 4K029AA24 , 4K029BA00 , 4K029BD00 , 4K029CA01 , 4K029DB01 , 4K029DB20

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

人工骨又は人工歯根インプラントおよび人工歯根フィクスチャー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-084997 Applicant：本津茂樹, 朝日インテック株式会社
レーザーを併用したウ蝕予防及び保存治療用のセラミック粉末
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-381235 Applicant：宇治英世
複合酸化物超電導薄膜の成膜方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-211504 Applicant：住友電気工業株式会社

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