Pat

J-GLOBAL ID：201303054048772103

微細相分離構造体及びその製造方法

Inventor： 片岡 一則 ,  岸村 顕広 ,  安楽 泰孝
Applicant, Patent owner： 独立行政法人科学技術振興機構
Agent (4)： 小林 浩 ,  大森 規雄 ,  岩田 耕一 ,  鈴木 康仁
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011196335
Publication number (International publication number)：2013057012
Application date： Sep. 08, 2011
Publication date： Mar. 28, 2013
Summary：

【課題】ブロックコポリマーの自己組織化と、溶液中における相分離を利用し、秩序だった微細構造を有する構造体(規則的なパターン構造を有する微細相分離構造体)を直接的かつ簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】本発明に係る規則的なパターン構造を有する微細相分離構造体は、水系溶媒中で、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとアニオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、カチオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合する、又は、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとカチオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、アニオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合し、当該混合後又は当該混合時に前記溶媒中に塩化合物を添加することにより得られるものである。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

水系溶媒中で、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとアニオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、カチオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合する、又は、非荷電性親水性のポリマー鎖セグメントとカチオン性のポリマー鎖セグメントとを含むブロックコポリマーと、アニオン性のポリマー鎖セグメントを含むポリマーとを混合し、当該混合後又は当該混合時に前記溶媒中に塩化合物を添加することにより得られる、規則的なパターン構造を有する微細相分離構造体。

IPC (3)：

C08J 3/02 ,  C08L 77/00 ,  C08G 69/40

FI (3)：

C08J3/02 D ,  C08L77/00 ,  C08G69/40

F-Term (32)：

4F070AA54 ,  4F070AB03 ,  4F070AB05 ,  4F070AB08 ,  4F070AB11 ,  4F070AC17 ,  4F070AE14 ,  4F070CA01 ,  4F070CB03 ,  4F070CB12 ,  4J001DA02 ,  4J001DB05 ,  4J001DC05 ,  4J001DD10 ,  4J001DD15 ,  4J001EA36 ,  4J001ED64 ,  4J001GE02 ,  4J001JA17 ,  4J001JA20 ,  4J001JB16 ,  4J001JC06 ,  4J002CL00X ,  4J002CL02W ,  4J002CL09X ,  4J002DD056 ,  4J002DD066 ,  4J002DD076 ,  4J002FD206 ,  4J002GB00 ,  4J002GD00 ,  4J002GH01