ポリマー光変調器の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (6)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 小林良博 , 出野知 , 小林直樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011162418
Publication number (International publication number)：2013025261
Application date： Jul. 25, 2011
Publication date： Feb. 04, 2013
Summary：

【課題】低温プロセスでゾルゲルガラスからなるクラッド・コア材の作製、屈折率の任意制御、光損失の極小制御が可能なポリマー光変調器の製造方法の提供。【解決手段】下記式(1) R1nSi(OR2)4-n (1) で表されるシリコンアルコキシド、その加水分解・縮合物、またはこれらの混合物と、光酸発生剤とを含む硬化性組成物を調製する工程と、該硬化性組成物を基板上に塗布・硬化し、更にパターン形成を行い、ゾルゲルガラスから形成される下部クラッド層、コア層、側部クラッド層及び上部クラッド層を形成する工程と、上部クラッド層中に、電気光学ポリマーから形成されるコア層を、該ゾルゲルガラスから形成されるコア層の上部に接触して埋設する工程とを含み、且つ、上部クラッド層と電気光学ポリマーから形成されるコア層との接続部の一部が、導波光の進行方向に対しテーパー構造を有する、ポリマー光変調器の製造方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

下記一般式(1) R1nSi(OR2)4-n (1) (R1は炭素数1〜10の有機基、もしくはフッ素化アルキル基、R2は炭素数1〜4のアルキル基、アシル基、nは1〜3の整数)で表されるシリコンアルコキシド、その加水分解・縮合物、またはこれらの混合物と、光酸発生剤とを含有する硬化性組成物を調製する工程と、該硬化性組成物を基板上に塗布・硬化し、更にパターン形成を行うことにより、ゾルゲルガラスから形成される下部クラッド層、コア層、側部クラッド層及び上部クラッド層を形成する工程と、上部クラッド層中に、電気光学ポリマーから形成されるコア層を、該ゾルゲルガラスから形成されるコア層の上部に接触して埋設する工程とを含み、且つ、上部クラッド層と電気光学ポリマーから形成されるコア層との接続部の一部が、導波光の進行方向に対してテーパー構造を有する、ポリマー光変調器の製造方法。

IPC (5)：

G02F 1/061 , G02B 6/12 , C08G 77/04 , C08G 77/20 , C08G 77/24

FI (5)：

G02F1/061 501 , G02B6/12 J , C08G77/04 , C08G77/20 , C08G77/24

F-Term (58)：

2H079AA02 , 2H079AA12 , 2H079BA01 , 2H079CA04 , 2H079DA07 , 2H079DA22 , 2H079EA03 , 2H079EB04 , 2H079HA16 , 2H079JA00 , 2H079JA02 , 2H079JA07 , 2H147AB02 , 2H147AC01 , 2H147BB05 , 2H147EA13C , 2H147EA14A , 2H147EA14B , 2H147EA19A , 2H147EA43A , 2H147FA09 , 2H147FA17 , 2H147FA18 , 2H147FE01 , 2H147FE02 , 2H147FE03 , 4J246AA03 , 4J246AA11 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BA14 , 4J246BA140 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB05 , 4J246BB050 , 4J246CA24X , 4J246CA240 , 4J246CA340 , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246CA46X , 4J246CA460 , 4J246CA65X , 4J246CA650 , 4J246FA131 , 4J246FA441 , 4J246FB031 , 4J246FB041 , 4J246FB051 , 4J246FB081 , 4J246FB211 , 4J246FB271 , 4J246FC061 , 4J246HA11 , 4J246HA14 , 4J246HA16 , 4J246HA70

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