シリカ被覆酸化亜鉛微粒子の製造方法と、その方法で得られたシリカ被覆酸化亜鉛微粒子

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：平山俊夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2007127324
Publication number (International publication number)：2008280465
Patent number：5150826
Application date： May. 11, 2007
Publication date： Nov. 20, 2008
Claim (excerpt)：

【請求項1】10〜70nmの平均二次微粒子径に解砕された酸化亜鉛のナノ粒子、テトラエトキシシラン、エタノール、アンモニア水溶液及び水とを混合し懸濁液を得る混合工程と、前記混合工程で得られた懸濁液を攪拌しつつ、該懸濁液にマイクロ波を照射してエタノールの気化温度を越えない範囲まで加熱すると共に、該加熱した温度を維持するよう前記酸化亜鉛微粒子が備える紫外線吸収機能が保持され且つ光触媒機能の抑制が可能となる2〜3nmの厚さのシリカ薄膜が前記酸化亜鉛微粒子の表面に形成されるまで前記マイクロ波の照射を継続するマイクロ波照射工程と、から成り、均一なシリカの膜が形成されることを特徴とするシリカ被覆酸化亜鉛微粒子の製造方法。

IPC (4)：

C09C 1/04 ( 200 6.01) , C01G 9/02 ( 200 6.01) , C09C 3/06 ( 200 6.01) , C09C 3/12 ( 200 6.01)

FI (4)：

C09C 1/04 , C01G 9/02 A , C09C 3/06 , C09C 3/12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

シリカ被覆酸化亜鉛粒子、その製法及びその粒子を含有する組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-370480 Applicant：冨士色素株式会社
グラビア印刷インキ及びそれを用いた紫外線カット印刷物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-138486 Applicant：昭和電工株式会社, トーホー加工株式会社
コア材料および少なくとも1層の誘電体層を含む顔料の製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2006-516133 Applicant：チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド

Show all

Return to Previous Page