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J-GLOBAL ID：201303063976747542

光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体、その製造方法及び抗ウイルス性・抗菌クロス

Inventor： 入江 敏夫 ,  白澤 浩 ,  鈴木 謙爾 ,  岡島 敏浩
Applicant, Patent owner： 公益財団法人特殊無機材料研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011276943
Publication number (International publication number)：2013126623
Application date： Dec. 19, 2011
Publication date： Jun. 27, 2013
Summary：

【課題】光の照射を受けない状態で使用する触媒についてその特性を測定する手段を確立するとともに、新たな構成を有する無光触媒体を提供する。【解決手段】基材の表面に、二酸化ケイ素が存在する状態の下で、遷移金属及び/又は遷移金属酸化物のカルボン酸、塩シュウ酸チタン、乳酸チタン、酢酸ジルコニウム、シュウ酸ジルコニウム、シュウ酸マンガン、シュウ酸鉄、シュウ酸コバルト、シュウ酸ニッケル、シュウ酸銅及びシュウ酸亜鉛、シュウ酸チタニルアンモニウム、シュウ酸酸化バナジウム及び酢酸酸化ジルコウムから選んだ1種又は2種以上を乾燥させるとき生成する正孔を含有する固形組成物を触媒層として坦持させてなる。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

基材の表面に下記の(A)、(B)及び(C)のいずれかの触媒層を有することを特徴とする光の照射を受けない状態で正孔を保有する触媒体。 (A)基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩を有効成分として含有する水性塗布剤を塗布・乾燥して形成された触媒層 (B)基材の表面に金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布・乾燥して形成された触媒層 (C)基材の表面に二酸化ケイ素層を形成後、さらに、金属のカルボン酸塩及び金属酸化物のカルボン酸塩から選んだ1種又は2種以上の塩及び二酸化ケイ素を有効成分として含有させてなる水性塗布剤を塗布・乾燥して形成された触媒層 ここに、金属のカルボン酸塩とは、遷移金属のカルボン酸塩を、金属酸化物のカルボン酸塩とは、遷移金属酸化物のカルボン酸塩をいう。

IPC (3)：

B01J 31/26 ,  B01J 35/06 ,  C23C 26/00

FI (3)：

B01J31/26 M ,  B01J35/06 A ,  C23C26/00 A

F-Term (41)：

4G169AA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA14A ,  4G169BA14B ,  4G169BA17 ,  4G169BA22A ,  4G169BB14A ,  4G169BB14B ,  4G169BB14C ,  4G169BC31A ,  4G169BC35A ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC54A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BE08A ,  4G169BE08B ,  4G169CA11 ,  4G169EA07 ,  4G169FA01 ,  4G169FB23 ,  4G169FB57 ,  4G169FB78 ,  4G169FC07 ,  4K044AA01 ,  4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA12 ,  4K044BA21 ,  4K044BB03 ,  4K044CA44 ,  4K044CA53