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J-GLOBAL ID：201303067043301417

凹凸パターンの形成方法

Inventor： 豊島 裕 ,  松井 良隆
Applicant, Patent owner： 東レフィルム加工株式会社
Agent (1)： 岩見 知典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011178198
Publication number (International publication number)：2013039731
Application date： Aug. 17, 2011
Publication date： Feb. 28, 2013
Summary：

【課題】 凹凸パターンおよび凹凸形状の制御が行い易い凹凸パターン形成方法を提供する。【解決手段】 基材上に硬化性成分を含む活性エネルギー線硬化性組成物を積層する工程(A)、前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物にマスクを介さずにレーザー光を照射する工程(B)、および前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物を加熱する工程(C)をこの順に有し、 前記工程(B)において、デジタルミラーデバイスを介してレーザー光の照射量をパターン状に変化させ、かつ該パターンがレーザー光の照射量を段階的に変化させながら照射する領域を有することを特徴とする、凹凸パターンの形成方法。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

基材上に硬化性成分を含む活性エネルギー線硬化性組成物を積層する工程(A)、前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物にマスクを介さずにレーザー光を照射する工程(B)、および前記積層された活性エネルギー線硬化性組成物を加熱する工程(C)をこの順に有し、 前記工程(B)において、デジタルミラーデバイスを介してレーザー光の照射量をパターン状に変化させ、かつ該パターンがレーザー光の照射量を段階的に変化させながら照射する領域を有することを特徴とする、凹凸パターンの形成方法。

IPC (2)：

B29C 59/16 ,  G02B 5/02

FI (2)：

B29C59/16 ,  G02B5/02 C

F-Term (16)：

2H042BA04 ,  2H042BA14 ,  2H042BA15 ,  4F209AA44 ,  4F209AB04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209AH73 ,  4F209AR17 ,  4F209PA15 ,  4F209PB01 ,  4F209PG05 ,  4F209PH27 ,  4F209PN03 ,  4F209PN09