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J-GLOBAL ID:201303069801235334
光学機能性積層体上に防汚性被膜を形成するための処理剤
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
小出 誠
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2007240463
Publication number (International publication number):2009067958
Patent number:5163022
Application date: Sep. 18, 2007
Publication date: Apr. 02, 2009
Claim (excerpt):
【請求項1】基材上に薄膜の積層によって光学的な機能を生じせしめた光学機能性積層体の最表面に防汚性被膜を形成するための処理剤であり、
少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を2個又は3個有し、且つジメチルシロキサンユニット(Si(CH3)2O)の数が30〜400である直鎖状ポリジメチルシロキサン、及び
加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット(CF2又はCF3)の数が6〜12であるフルオロアルキルシラン、そして、
有機溶媒、前記直鎖状ポリジメチルシロキサン及び前記フルオロアルキルシランの加水分解可能な官能基を加水分解させる酸、及び水を混合してなる処理剤であり、
処理剤の総量に対し、重量濃度で
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが0.2〜3.0重量%、
前記フルオロアルキルシランが0.2〜2.0重量%、そして、
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロアルキルシランとの総量が0.5〜3.5重量%
混入されたことを特徴とする処理剤。
IPC (4):
C09D 183/04 ( 200 6.01)
, G02B 1/10 ( 200 6.01)
, C09D 183/08 ( 200 6.01)
, C09D 5/16 ( 200 6.01)
FI (4):
C09D 183/04
, G02B 1/10 Z
, C09D 183/08
, C09D 5/16
Patent cited by the Patent: