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J-GLOBAL ID：201303070066591219

耐指紋汚染性基材

Inventor： 村田 敬介 ,  扇谷 幸宏 ,  濱口 滋生 ,  黒澤 百理子
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012094140
Publication number (International publication number)：2013010684
Application date： Apr. 17, 2012
Publication date： Jan. 17, 2013
Summary：

【課題】表面に付着した指紋等の汚れが目立ちにくく、かつ、付着した指紋が布等による乾拭きで拭き取りやすい基材であり、拭き取り部分に再度指紋成分が付着した場合であっても、該指紋成分が目立ちにくい基材、すなわち、優れた耐指紋汚染性を有する基材を提供する。【解決手段】光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材1の平滑な面2の指が接触する箇所に、該平滑な面2に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴3を有し、該穴3の正面視での投影面積の二乗根の寸法が10〜300μmであり、該穴3の平均深さが0.2〜50μmであり、該穴3の分布頻度が面積比で10〜85%であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材1。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

光透過性、光反射性、または光沢性を有する基材の平滑な面の指が接触する箇所に、該平滑な面に付着した指紋成分を毛細管力で集める凹型の穴を有し、該穴の正面視での投影面積の二乗根の寸法が10〜300μmであり、該穴の平均深さが0.2〜50μmであり、該穴の分布頻度が面積比で10〜85%であることを特徴とする、耐指紋汚染性基材。

IPC (6)：

C03C 19/00 ,  B32B 17/06 ,  C03C 15/00 ,  C03C 17/30 ,  B32B 3/30 ,  B29C 59/00

FI (6)：

C03C19/00 A ,  B32B17/06 ,  C03C15/00 D ,  C03C17/30 B ,  B32B3/30 ,  B29C59/00 H

F-Term (33)：

4F100AG00A ,  4F100AK52 ,  4F100BA02 ,  4F100DD01A ,  4F100EH46 ,  4F100EJ15 ,  4F100JB06B ,  4F100JL06 ,  4F100JN01A ,  4F100JN06A ,  4F100JN21A ,  4F100YY00A ,  4F209AD04 ,  4F209AF01 ,  4F209AG03 ,  4F209AG05 ,  4F209PA01 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PC20 ,  4F209PQ20 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AB01 ,  4G059AB03 ,  4G059AB09 ,  4G059AB11 ,  4G059AC01 ,  4G059AC22 ,  4G059FA05 ,  4G059FA11