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J-GLOBAL ID:201303080524969612
光触媒およびその製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
山川 政樹
, 山川 茂樹
, 小池 勇三
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2011139172
Publication number (International publication number):2013006135
Application date: Jun. 23, 2011
Publication date: Jan. 10, 2013
Summary:
【課題】レニウム錯体による光触媒で、より高い一酸化炭素の生成効率が得られるようにする。【解決手段】光触媒は、Re(CO)3LXで示され、Lが4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン誘導体であり、Xがアニオン性もしくは中性の単座配位子であるレニウム錯体から構成されたものである。4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン誘導体は、例えば、4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリンであればよい。また、Xは、塩素であればよい。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
Re(CO)3LXで示され、Lが4,7-ジフェニル-1,10-フェナントロリン誘導体であり、Xがアニオン性もしくは中性の単座配位子であるレニウム錯体から構成されたことを特徴とする光触媒。
IPC (4):
B01J 35/02
, C01B 31/18
, B01J 31/22
, B01J 37/04
FI (4):
B01J35/02 J
, C01B31/18 A
, B01J31/22 M
, B01J37/04 102
F-Term (31):
4G146JA01
, 4G146JC28
, 4G146JD02
, 4G169AA06
, 4G169AA08
, 4G169BA27A
, 4G169BA27B
, 4G169BA36A
, 4G169BA48A
, 4G169BC64A
, 4G169BC64B
, 4G169BD12B
, 4G169BE13A
, 4G169BE13B
, 4G169BE33B
, 4G169BE37A
, 4G169BE37B
, 4G169BE38A
, 4G169BE38B
, 4G169BE39A
, 4G169BE39B
, 4G169BE42A
, 4G169BE42B
, 4G169BE45B
, 4G169BE46B
, 4G169CA08
, 4G169CA11
, 4G169FA01
, 4G169HA01
, 4G169HB10
, 4G169HE04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
二酸化炭素還元装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-029883
Applicant:スタンレー電気株式会社, 独立行政法人産業技術総合研究所
-
光触媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-274324
Applicant:株式会社豊田中央研究所
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