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J-GLOBAL ID：201303082917216422

α-ヒドロキシ酸塩の製造方法

Inventor： 佐藤 美洋 ,  美多 剛 ,  宮地 伸英
Applicant, Patent owner： 国立大学法人北海道大学 ,  日産化学工業株式会社
Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011187128
Publication number (International publication number)：2013049638
Application date： Aug. 30, 2011
Publication date： Mar. 14, 2013
Summary：

【課題】温和な反応条件下で強塩基に弱い官能基を有する基質でもCO2補足反応によるカルボキシル化が速やかに進行する、α-ヒドロキシ酸誘導体合成の中間体であるα-ヒドロキシ酸塩の新規製造方法を提供する。【解決手段】式(1)で表される有機スズ化合物とCO2とをCsFの存在下で反応させることを特徴とする式(2)で表されるα-ヒドロキシ酸塩の製造方法。(式中、R1は置換若しくは非置換の炭素数6〜14のアリール基、置換若しくは非置換の炭素数3〜9のヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換の炭素数2〜14のアルケニル基を表す。R2は置換若しくは非置換の炭素数1〜8のアルキル基、又は置換若しくは非置換の炭素数2〜7のアシル基を表す。R'は炭素数1〜4の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(1)で表される有機スズ化合物と二酸化炭素とをフッ化セシウムの存在下で反応させることを特徴とする下記式(2)で表されるα-ヒドロキシ酸塩の製造方法。

IPC (2)：

C07C 67/29 ,  C07C 69/157

FI (2)：

C07C67/29 ,  C07C69/157

F-Term (8)：

4H006AA02 ,  4H006AC47 ,  4H006BD20 ,  4H006BE41 ,  4H006BJ50 ,  4H006BS70 ,  4H006KA30 ,  4H006KC12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 含フッ素化合物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-000670   Applicant：財団法人相模中央化学研究所
• 1,4-ジヒドロピリジン化合物の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-373448   Applicant：ファイザー製薬株式会社
• 窒素含有6員環ジオン誘導体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-318614   Applicant：大塚化学株式会社
• N-トリフェニルメチル-デヒドロアラニン誘導体及びその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-162740   Applicant：新日本製鐵株式会社, 新日鐵化学株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• Tetrahedron Letters, 1990, Vol.31, No.14, P.1985-1988