サファイア基板の平坦化加工装置および平坦化加工方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2011174463
Publication number (International publication number)：2013038289
Application date： Aug. 10, 2011
Publication date： Feb. 21, 2013
Summary：

【課題】サファイア基板を高スループットで平坦化加工して薄肉化した反りのない異物の付着が少ない加工基板を製造することができる平坦化加工装置の提供。【解決手段】 3軸の研削砥石ヘッド34hc,34hm,34hfを備える研削装置30と、2基のワーク吸着ヘッド22,22を備えるラップ盤20間のサファイア基板の移送を多関節型搬送ロボット4のアーム4aを利用して行う。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

平坦化加工装置を据え付ける部屋を前方部より後方部に向かって、部屋の前方左半部をワーク搬送室兼ワーク洗浄室とし、前方右半部をワークのラップ加工室に区分けし、後方部をワークの研削加工室と3区画化し、前記ワーク搬送室兼ワーク洗浄室には、前方から後方に向かって最前列にはワークの収納カセットの複数を、第二列目には、中央に多関節型アーム式ワーク搬送ロボットを、第三列目には、左側から右側に向かって、左側1番列目に部室の壁上部に第二案内レールを滑走可能なワーク吸着搬送器を、 2番列目の前方に仮置台を、2番列目の後方にロール回転式ワーク表面洗浄器を、 3番列目の前記多関節型ワーク搬送ロボット後ろに多関節型アーム式ワーク搬送ロボット用アーム洗浄器を、 4番列目にラップ加工ワーク裏面のスピン洗浄器と、ラップ加工ワーク表面用のベルクリン洗浄器を設け、第四列目には、左側から右側に向かって、前記ワーク吸着搬送器の右横側であって、かつ、前記ロール回転式ワーク表面洗浄器の後方に、研削加工されたワークのスピナー洗浄器を設け、この研削加工されたワークのスピナー洗浄器の右横側であって、かつ、前記多関節型アーム式ワーク搬送ロボット用アーム洗浄器の後方に、センタリング装置付き仮置台を設け、前述の前方右半部のラップ加工室を囲繞する四壁の左側壁には、ワーク搬入口窓が設けられ、このラップ加工室内には、金属製回転定盤1個に対してワーク吸着ヘッドを昇降および回転軸に揺動可能に備えたワーク押圧手段の一対と、前記ワーク吸着ヘッド下部を洗浄する回転ブラシを備えたワーク吸着ヘッド洗浄器の一対と、2個の金属製回転定盤リング状コンディショナと、金属製回転定盤洗浄機構と、金属製回転定盤のフェーシング装置1台を備え、前記後方部の研削加工室内には、 1台のインデックステーブル、およびインデックステーブルの回転軸を回転駆動させる駆動手段、このインデックステーブルの回転軸心を中心点とする同一円周上に等間隔に設置した4つの円筒刳り貫き空間内に設けた吸着チャックテーブル4台、およびそれら吸着チャックテーブル4台の回転軸を回転駆動させる駆動手段、前記4台の吸着チャックテーブルの内、前記ワーク搬送室兼ワーク洗浄室内の研削ワーク洗浄器およびセンタリング装置付き仮置台に近い位置にある第一吸着チャックテーブルをローデイング/アンローデイングステージ(s1)位置とし、このローデイング/アンローデイングステージ(s1)位置を囲む壁の左半部のL字状側壁および天井は削除されており、壁天上部には昇降可能なアームを前記第一吸着チャックテーブルの中心点と前記センタリング装置付き仮置台の中心点の間を移動できる第一案内レールを備えた第一ワーク搬送機構を設け、前記第一吸着チャックテーブルと第一ワーク搬送機構とでローデイング/アンローデイングステージ(s1)を構成し、第二吸着チャックテーブルの上方にはカップホイール型粗研削砥石を砥石軸に軸承させた粗研削ヘッドを設けて第二吸着チャックテーブルと粗研削ヘッドとで粗研削ステージ(s2)を構成し、第三吸着チャックテーブルの上方にはカップホイール型中仕上げ研削砥石を砥石軸に軸承させた中仕上げ研削ヘッドを設けて第三吸着チャックテーブルと中仕上げ研削ヘッドとで中仕上げ研削ステージ(s3)を構成し、および、第四吸着チャックテーブルの上方にはカップホイール型仕上げ研削砥石を砥石軸に軸承させた仕上げ研削ヘッドを設けて第四吸着チャックテーブルと仕上げ研削ヘッドとで仕上げ研削ステージ(s4)を構成した研削ステージを設け、前記ローデイング/アンローデイングステージ(s1)を構成する第一吸着チャックテーブルの傍には吸着パッドをアームに支持させたペンダント揺動回転方式のワーク吸着搬送パッド機構を設け、この吸着パッドが前記第一吸着チャック上と前記研削加工されたワークのスピン洗浄器上間を揺動回転移動するように設置し、前述のワーク搬送室兼ワーク洗浄室内の多関節型アーム式ワーク搬送ロボットのアームは、収納カセット、センタリング装置付き仮置台、研削加工ワークの洗浄器、仮置台、および、ラップ加工ワーク表面の洗浄器上のワーク、並びに一対のワーク吸着ヘッド下部に吸着されたワークを搬送できる軌跡を移動、並びに、前記のこれらの機器にワークを移送できる軌跡を移動できるものであり、前述のワーク搬送室兼ワーク洗浄室内の第二案内レールを滑走可能なワーク吸着搬送器は、仮置台の中心点、ロール回転式ワーク表面洗浄器、および、スピナー洗浄器の中心点を結ぶ線上を移動できるように設計されている、ことを特徴とするサファイア基板の平坦化加工装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 , B24B 37/10 , B24B 7/00

FI (4)：

H01L21/304 621B , B24B37/04 G , H01L21/304 631 , B24B7/00 A

F-Term (27)：

3C043BA04 , 3C043BA09 , 3C043BA17 , 3C043CC04 , 3C043CC07 , 3C043CC11 , 3C043DD05 , 3C043DD06 , 3C043DD11 , 3C043DD14 , 3C058AA07 , 3C058AA18 , 3C058AB08 , 3C058CA05 , 3C058CB03 , 3C058DA17 , 5F057AA34 , 5F057BA12 , 5F057BB12 , 5F057CA11 , 5F057DA05 , 5F057DA08 , 5F057DA11 , 5F057DA38 , 5F057FA02 , 5F057FA32 , 5F057FA34

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

半導体デバイス製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-039049 Applicant：エヌティティエレクトロニクステクノロジー株式会社, 土肥俊郎, ロデール・ニッタ株式会社
特開昭63-207559
半導体基板の平坦化装置および平坦化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-230205 Applicant：株式会社岡本工作機械製作所

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