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J-GLOBAL ID：201303092871227950

セシウム及びストロンチウム汚染除去洗浄剤の製造方法

Inventor： 藤原 榮一郎 ,  藤原 和郎 ,  藤原 博士
Applicant, Patent owner： フジケミカル株式会社
Agent (1)： 石渡 英房
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012107140
Publication number (International publication number)：2013234142
Application date： May. 08, 2012
Publication date： Nov. 21, 2013
Summary：

【課題】除去効率がよく洗顔後のさっぱり感のよいセシウム及びストロンチウム汚染除去洗浄剤の製造方法を提供する。【解決手段】聖徳石の岩盤中に掘削した井戸から揚水した浸出水に対し濃縮作業を反復して行い、少なくともナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン、銅イオン、アルミニウムイオン、鉄イオンからなる8種類の金属イオン類を微量含有するpH2.5〜3.0の範囲である聖徳石濃縮液を得て、液体石けんに対し該聖徳石浸出液を0.03〜0.10重量%の範囲で含有させるとともにジエチレントリアミン五酢酸またはフィチン酸を0.05〜0.20重量%含有させた。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

聖徳石の岩盤中に掘削した井戸から揚水した浸出水に対し自然環境に近い温度環境中で濃縮作業を反復して行い、少なくともナトリウムイオン0.30〜0.60mg、カリウムイオン0.05〜0.50mg、マグネシウムイオン0.05〜0.50mg、カルシウムイオン0.50〜1.10mg、亜鉛イオン0.02〜0.07mg、銅イオン0.01〜0.02mg、アルミニウムイオン7.00〜14.00mg、鉄イオン40.00〜65.00mgからなる8種類の金属イオン類を微量含有するとともにpH2.5〜3.0の範囲である聖徳石濃縮液を得て、 液体石けんに対し、少なくとも、該聖徳石濃縮液を0.03〜0.10重量%の範囲で含有させるとともにジエチレントリアミン五酢酸またはフィチン酸を0.05〜0.20重量%含有させたセシウム及びストロンチウム汚染除去洗浄剤の製造方法。

IPC (5)：

A61K 8/19 ,  A61Q 19/10 ,  A61K 8/44 ,  A61K 8/55 ,  A61Q 5/02

FI (5)：

A61K8/19 ,  A61Q19/10 ,  A61K8/44 ,  A61K8/55 ,  A61Q5/02

F-Term (18)：

4C083AA161 ,  4C083AA162 ,  4C083AB032 ,  4C083AB211 ,  4C083AB212 ,  4C083AC122 ,  4C083AC302 ,  4C083AC392 ,  4C083AC482 ,  4C083AC521 ,  4C083AC522 ,  4C083AC642 ,  4C083AC901 ,  4C083AC902 ,  4C083AD302 ,  4C083AD532 ,  4C083CC23 ,  4C083DD27